国家自然科学基金(51201033)
- 作品数：4 被引量：15H指数：3
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- 相关机构：东南大学南京工程学院更多>>
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- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 氮流量比对直流/射频磁控溅射CrN涂层耐腐蚀性的影响被引量：4
- 2013年
- 采用直流/射频磁控溅射法,在不同氮流量比条件下制备了CrN涂层。利用扫描电镜、X射线衍射、显微硬度计和电化学测试系统研究了氮流量比对涂层组织和性能的影响,并对涂层腐蚀机制进行了初步探讨。研究结果表明:不同氮流量比条件下,直流溅射CrN涂层呈现明显的柱状晶,组织疏松,而射频溅射涂层结构都比较致密,导致射频涂层的耐腐蚀性明显优于直流涂层;在直流条件下,氮流量比为70%时的CrN涂层耐蚀性最佳。
- 谈淑咏吴湘君张旭海蒋建清
- 关键词：直流射频磁控溅射CRN涂层耐腐蚀性
- CrCuN薄膜择优取向与价电子结构的关系研究
- 2013年
- 基于固体和分子经验电子理论(EET)计算了CrN和Cu的价电子结构及晶面电子密度的变化,分析了CrCuN纳米复合膜择优取向与价电子结构的关系。计算结果显示,CrN(100)/Cu(111)具有较低的电子密度差,薄膜中易存在此种界面结构。当薄膜中Cu含量较多时,Cu易于(111)择优生长,而CrN则按(100)CrN/(111)Cu位向关系在其表面形核,从而有助于CrCuN薄膜中CrN[200]取向的增强。该计算结果与实验事实相符合,为Cr-N基纳米复合膜的微结构研究和设计提供了新思路。
- 谈淑咏张旭海张炎蒋建清
- 关键词：EET
- 直流脉冲磁控溅射铜膜的结构与性能研究被引量：6
- 2017年
- 采用直流脉冲磁控溅射法制备铜膜,利用X射线衍射法分析薄膜相结构,通过扫描电镜观察薄膜形貌,基于纳米压痕载荷-位移曲线计算薄膜的硬度、弹性模量和接触刚度,同时采用显微硬度法测量薄膜硬度,系统研究了溅射功率和偏压对铜膜结构和力学性能的影响。结果表明,通过纳米压痕载荷-位移曲线计算薄膜力学性能是可靠的。随着溅射功率的增大,铜膜生长取向几乎无变化,均呈无择优生长状态,弹性模量、接触刚度基本不变,硬度略有减小;偏压增大会使铜膜呈现明显的(111)取向生长,接触刚度、弹性模量和硬度呈下降趋势。
- 谈淑咏张旭海朱迪陈健蒋建清
- 关键词：纳米压痕弹性模量接触刚度
- 层厚比对磁控溅射Cr/CrN多层涂层组织和性能的影响被引量：5
- 2014年
- 在超高真空磁控溅射仪上,制备了一系列具有相同调制周期不同层厚比的Cr/CrN涂层。用X射线衍射仪分析了涂层的相组成,通过扫描电镜观察了涂层形貌,采用显微硬度计测试了涂层硬度,在划痕仪上确定涂层和基体间的结合力,并利用磨损仪测量涂层的摩擦磨损性能。结果表明:调制周期为400nm时,当层厚比由2.0减小到0.2,Cr/CrN多层涂层始终由Cr和CrN两相组成,涂层择优取向为CrN(200),且涂层变得愈加致密,硬度从1550HV增大到2300HV,磨损率从2.4×10-8 mm3·N-1·m-1减小为0.6×10-8 mm3·N-1·m-1,涂层和基体结合性能优良。
- 谈淑咏吴湘君张旭海张炎蒋建清朱雪锋江先彪
- 关键词：磨损率
