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国家自然科学基金(61176051)

作品数:2 被引量:4H指数:1
相关作者:王骁李宇波杨杭生戴庭舸袁广中更多>>
相关机构:浙江大学更多>>
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相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硼
  • 1篇第一性原理
  • 1篇立方氮化硼
  • 1篇空位
  • 1篇PREPAR...
  • 1篇ATOM
  • 1篇BN
  • 1篇CUBIC
  • 1篇INTENS...
  • 1篇INTERS...

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇袁广中
  • 1篇戴庭舸
  • 1篇杨杭生
  • 1篇李宇波
  • 1篇王骁

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
第一性原理计算研究立方氮化硼空位的电学和光学特性被引量:4
2013年
对立方氮化硼的空位进行了基于密度泛函理论框架下的第一性原理平面波超软赝势方法的研究.通过对总能量、能带结构、态密度及电子密度分布图的分析发现,B空位相比起N空位更加稳定.并且空位仅影响最近邻原子的电子分布,空位浓度的增加使禁带宽度逐渐变窄.从复介电函数和光学吸收谱分析中发现,随着空位浓度的增加,立方氮化硼在深紫外区的吸收逐渐减弱.并且B空位还导致在可见光区域出现明显的吸收带.
李宇波王骁戴庭舸袁广中杨杭生
关键词:立方氮化硼空位第一性原理
Residual compressive stress and intensity of infrared absorption of cubic BN films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition
2014年
Theoretical and experimental investigations on the dependence of the intensity of infrared (IR) absorption of poly- crystalline cubic boron nitride thin films under the residual compressive stress conditions have been performed. Our results indicate that the intensity of the IR absorption is proportional to the total degree of freedom of all the ions in the ordered regions. The reduction of interstitial Ar atom concentration, which causes the increase in the ordered regions of cubic boron nitride (cBN) crystallites, could be one cause for the increase in the intensity of IR absorption after residual compressive stress relaxation. Theoretical derivation is in good agreement with the experimental results concerning the IR absorption intensity and the Ar interstitial atom concentration in cubic boron nitride films measured by energy dispersion X-ray spec- troscopy. Our results also suggest that the interstitial Ar is the origin of residual compressive stress accumulation in plasma enhanced cBN film deposition.
杨杭生金盼盼徐亚伯李海洋
共1页<1>
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