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国家自然科学基金(61235011)

作品数:30 被引量:85H指数:5
相关作者:刘华松季一勤姜玉刚刘丹丹姜承慧更多>>
相关机构:天津津航技术物理研究所同济大学哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 30篇中文期刊文章

领域

  • 27篇理学
  • 8篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 10篇光学
  • 9篇SIO2薄膜
  • 7篇离子束
  • 7篇离子束溅射
  • 7篇溅射
  • 5篇光学常数
  • 4篇激光
  • 3篇英文
  • 3篇折射率
  • 3篇光学特性
  • 3篇红外
  • 2篇电子束蒸发
  • 2篇氧化物薄膜
  • 2篇振子模型
  • 2篇弱吸收
  • 2篇色散
  • 2篇色散特性
  • 2篇透过率
  • 2篇子模
  • 2篇节瘤

机构

  • 19篇天津津航技术...
  • 9篇同济大学
  • 8篇哈尔滨工业大...
  • 5篇中国航天
  • 2篇教育部
  • 1篇钦州学院
  • 1篇天津大学
  • 1篇中国人民解放...

作者

  • 24篇刘华松
  • 23篇季一勤
  • 18篇姜玉刚
  • 14篇刘丹丹
  • 10篇姜承慧
  • 9篇冷健
  • 7篇陈德应
  • 6篇张锋
  • 6篇庄克文
  • 5篇孙鹏
  • 4篇王占山
  • 3篇焦宏飞
  • 3篇羊亚平
  • 3篇张锦龙
  • 3篇程鑫彬
  • 2篇鲍刚华
  • 2篇沈正祥
  • 2篇樊荣伟
  • 2篇杨霄
  • 2篇陈丹

传媒

  • 14篇红外与激光工...
  • 3篇物理学报
  • 3篇光学学报
  • 2篇红外与毫米波...
  • 2篇Chines...
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇光子学报
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇中国光学
  • 1篇Light(...

年份

  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 3篇2017
  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 9篇2014
  • 10篇2013
30 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
不同沉积方式SiO_2薄膜的自然时效特性(英文)被引量:2
2019年
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO_2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO_2薄膜、EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBSSiO_2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO_2薄膜。
姜玉刚刘小利刘华松刘华松李士达陈丹刘丹丹陈丹季一勤
关键词:光学常数
离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整被引量:9
2013年
基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03%、71.98%和69.53%;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62%、48.49%和37.88%。得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量。
刘华松王利栓姜玉刚季一勤
关键词:SIO2薄膜折射率应力离子束溅射
卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究被引量:7
2019年
当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm波长的反射和0.5~0.8μm、1.55μm波段的增透,在玻璃基板另一面设计双波段减反射膜,实现0.5~0.8μm和1.55μm波段的增透。采用离子束溅射沉积技术,实现了激光防护窗口薄膜的制备,在0.5~0.8μm的平均透过率大于96%,1.55μm的透过率大于98%,1.315μm的透过率小于0.1%,在2.7μm的透过率为30%,在3.8μm的透过率为1.1%。实验结果表明,该方法实现了可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口的制备,对于卫星平台防护激光武器具有重要作用。
姜玉刚刘华松刘华松陈丹李士达陈丹
关键词:激光武器透过率反射率
基底和膜层-基底系统的赝布儒斯特角计算(英文)
2013年
对基底和膜层-基底系统的赝布儒斯特角进行了数值计算.结果显示:当基底的消光系数小于0.01时,基底的赝布儒斯特角主要是由折射率决定;当基底的消光系数大于0.1时,基底的赝布儒斯特角不仅与折射率有关,而且还与消光系数有关,随着消光系数发生后周期性变化.研究表明:单层膜-基底系统的赝布儒斯特角主要由膜层的物理厚度、折射率、基底的光学常量所决定;在HfO2-硅和HfO2-融石英基底系统中,赝布儒斯特角随着入射光波长和膜层厚度的变化呈现准周期性规律变化,可能是由入射光在膜层的干涉效应引起的.
刘华松姜玉刚王利栓姜承慧季一勤
关键词:折射率消光系数
热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析被引量:3
2014年
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。
姜玉刚王利栓刘华松刘丹丹姜承慧羊亚平季一勤
关键词:SIO2薄膜光学特性折射率弱吸收
弱吸收单面薄膜光学特性的表征方法被引量:1
2013年
光谱法是测量光学薄膜光学性能的重要方法之一,能够直接表征薄膜-基底系统的光学特性,如:反射率、透过率和吸收率。通过研究薄膜-基底系统的光传输特性,推导出在基底具有弱吸收的一般条件下薄膜-基底系统反射率、透射率和吸收率的表达式,确定了通过测量单面和双面抛光基底及其薄膜特性间接获得薄膜单面光学特性的方法;在实验中使用Lambda-900分光光度计对熔融石英基底的HfO2薄膜进行了测试,并通过测量误差分析,薄膜的单面反射率误差为1.00%,单面透过率的误差为0.601%。研究结果表明文中方法可适用于各类薄膜单面特性的表征与评价。
刘华松傅翾王利栓姜玉刚冷健庄克文季一勤
关键词:光学特性
宽带啁啾镜的制备及其损伤特性研究被引量:1
2015年
基于损伤特性、应力特性较好的电子束蒸发技术,制备了Ta2O5/SiO2和HfO2/SiO2两种带宽不同、电场分布不同的啁啾镜,利用中心波长为1030nm,脉宽为350fs的激光脉冲对两种样品进行了损伤测试。实验结果表明:材料特性及电场分布是影响啁啾镜损伤阈值的主要因素,通过膜系设计降低电场分布可以制备带宽更宽、损伤阈值与HfO2/SiO2啁啾镜相近的Ta2O5/SiO2啁啾镜。利用基于导带电子数密度的理论模型对此现象进行了解释,同时对啁啾镜的损伤形貌进行了观测、分析。
谢雨江张锦龙王占山刘华松焦红飞
关键词:啁啾镜激光诱导损伤飞秒激光电场
SiO_2薄膜TO与LO振动模式的数值研究
2014年
对Si-SiO2基底薄膜系统进行数值实验,将SiO2薄膜的能损函数与透过率光谱和反射椭圆偏振光谱进行对比,讨论了在红外透过率光谱和反射椭偏光谱中激发的SiO2薄膜TO和LO振动模式。在正入射的红外透过率光谱中,仅能发现SiO2薄膜的TO振动模式;在倾斜入射的s偏振透过率光谱中没有激发的LO模式;在倾斜入射的p偏振透过率光谱中,当入射角小于60°时,三个TO振动模式全部被激发;当入射角大于60°时,三个LO振动模式都被激发,而TO模式仅能激发两个。在反射椭偏光谱中,TO模式未被激发,仅能激发LO模式。在透过率光谱和反射椭偏谱中,振动频率分别具有向高波数和低波数方向频移的现象。
刘华松罗征刘幕霄姜玉刚王利栓季一勤张锋陈德应
关键词:SIO2薄膜
Effects of the ion-beam voltage on the properties of the diamond-like carbon thin film prepared by ion-beam sputtering deposition被引量:1
2015年
Diamond-like carbon (DLC) thin film is one of the most widely used optical thin films. The fraction of chemical bondings has a great influence on the properties of the DLC film. In this work, DLC thin films are prepared by ion-beam sputtering deposition in Ar and CH4 mixtures with graphite as the target. The influences of the ion-beam voltage on the surface morphology, chemical structure, mechanical and infrared optical properties of the DLC films are investigated by atomic force microscopy (AFM), Raman spectroscopy, nanoindentation, and Fourier transform infrared (FTIR) spec- troscopy, respectively. The results show that the surface of the film is uniform and smooth. The film contains sp2 and sp3 hybridized carbon bondings. The film prepared by lower ion beam voltage has a higher sp3 bonding content. It is found that the hardness of DLC films increases with reducing ion-beam voltage, which can be attributed to an increase in the fraction of sp3 carbon bondings in the DLC film. The optical constants can be obtained by the whole infrared optical spectrum fitting with the transmittance spectrum. The refractive index increases with the decrease of the ion-beam voltage, while the extinction coefficient decreases.
孙鹏胡明张锋季一勤刘华松刘丹丹冷健
金属氧化物薄膜光学常数计算物理模型应用研究被引量:3
2014年
采用离子束溅射(IBS)方法制备了HfO2和Ta2O5两种金属氧化物薄膜,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。在拟合过程中,采用L8(27)正交表设计了8组反演计算实验,在初始选定Cauchy模型后,对HfO2薄膜拟合影响最大的为表面层模型,对Ta2O5薄膜拟合影响最大的为折射率梯度模型。确定了不同物理模型对拟合函数MSE的影响权重和拟合过程中模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,最后加入弱吸收模型反演计算两种薄膜的光学常数,反演计算的MSE相对初始MSE可下降79%和39%,表明拟合过程模型选择物理意义明确,具有广泛的应用价值。在500nm处,Ta2O5薄膜的折射率梯度大于HfO2薄膜,而HfO2薄膜消光系数大于Ta2O5薄膜。表明Hf金属与Ta金属相比容易氧化形成稳定的氧化物,HfO2薄膜的吸收要高于Ta2O5薄膜。
刘华松姜承慧王利栓刘丹丹姜玉刚孙鹏季一勤
关键词:HFO2TA2光学常数物理模型
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