国家自然科学基金(50805039)
- 作品数：4 被引量：19H指数：2
- 相关作者：张飞虎张勇王星张玲花周明更多>>
- 相关机构：哈尔滨工业大学河南工业大学中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金中国航空科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺航空宇航科学技术更多>>
- 纳米颗粒胶体射流抛光喷嘴的流场仿真研究被引量：2
- 2011年
- 对空化射流抛光喷嘴的流场整体进行了仿真分析。对锥形射流喷嘴与旋转射流喷嘴的流场进行模拟计算,得到流场中速度与压力分布图,工件表面处速度和压力都呈现M形分布。旋转射流因为具有旋转速度而有更好的掺混能力,空化能力更强。综合比较,旋转射流喷嘴更适合空化射流的应用。
- 张玲花张勇张飞虎
- 关键词：喷嘴速度场压力场空化
- 纳米颗粒胶体动压空化射流抛光技术初探(英文)被引量：10
- 2011年
- 为了高效加工优质的超光滑表面,提出了一种超光滑表面加工的新方法:纳米颗粒胶体动压空化射流抛光(HCJP).此法利用纳米颗粒与工件表面之间的界面化学反应实现工件表面的原子级去除,并且利用空化射流中的水力空化现象强化加工过程中的机械与化学作用以提高加工效率.设计了HCJP原型装置,并在此基础上对HCJP技术进行了初步实验.结果表明,较低的系统压力有利于得到优质的表面,使用该方法能在K9玻璃上得到粗糙度值在1 nm左右的超光滑表面,证明此技术可以广泛应用于超光滑表面的加工.
- 王星张勇张飞虎张玲花周明
- 关键词：超光滑表面
- 基于分子动力学仿真的纳米胶体射流抛光材料去除机理被引量：7
- 2017年
- 利用分子动力学模拟了纳米Si O2颗粒与单晶硅(100)表面的碰撞过程,以此来分析纳米胶体射流抛光的材料去除机理。仿真结果显示:粒径为7 nm的Si O2颗粒其速度在50 m/s时,与单晶硅工件表面的碰撞作用不会引起工件表面的原子排布的变化;而若要使碰撞对单晶硅工件表面原子排布产生影响,纳米Si O2颗粒的速度需大于250 m/s。以单晶硅工件为加工对象进行了纳米胶体射流抛光加工试验。利用激光拉曼光谱对加工前后单晶硅工件表面原子排布状况进行了比较,其结果与分子动力学仿真结果吻合。利用X射线光电子能谱,研究了加工前后纳米Si O2颗粒与单晶硅工件表面原子之间化学键的变化。通过仿真和试验得出:纳米胶体射流抛光中,纳米颗粒碰撞所产生的机械作用不能直接去除工件材料,材料的去除是纳米颗粒与工件表面之间机械作用和化学作用的共同结果。
- 王星张勇徐琴崔仲鸣张飞虎
- 关键词：分子动力学
- 纳米胶体动压空化射流抛光加工实验研究被引量：1
- 2012年
- 在研制了纳米胶体动压空化射流抛光原型设备的基础上,使用单晶硅作为工件材料进行空化射流抛光与普通射流抛光的定点抛光对比实验。结果表明:加工角度为90°时,空化射流抛光与普通射流抛光加工轮廓相似,均呈现"W"形状,并且其加工表面质量最好的位置均处在去除最多的圆环处。与普通射流抛光相比,采用旋转导叶喷嘴的空化射流抛光加工效率更高,所得到的表面质量更好。在本实验条件下,加工单晶硅表面得到了Ra0.758 nm的表面粗糙度。
- 王星张飞虎张勇龚翔宇周明
- 关键词：超光滑表面粗糙度
