陕西省自然科学基金(2006E109)
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
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- 释放保型软压印光刻工艺被引量：4
- 2007年
- 针对压印过程中模具与晶圆密贴度和压印面积的矛盾,提出释放保型软压印光刻工艺。此工艺包括五步加载过程,可充分挖掘压印图型转印误差根源以及图型转印保真度与阻蚀胶留膜厚度的内在矛盾。通过目标载荷量的调节与控制将模具弹性回弹调整到紫外光固化步骤前,消除压印过程的内在矛盾,实现压印面积由2 cm^2向8 cm^2的提升,同时保证阻蚀胶留膜厚度的要求。基于创新的释放保型软压印工艺,一套低成本及结构简单的压印光刻原型机被设计构建,一系列压印结果证明应用此工艺的压印光刻机具有同场压印不同面积、特征尺寸结构图型的多次复制能力。
- 刘红忠丁玉成卢秉恒尹磊蒋维涛史永胜邵金友
- 软紫外光压印光刻的模具制造研究
- 2008年
- 在软紫外光压印光刻中,提出以光刻胶为母版材料翻制聚二甲基硅氧烷软模具的工艺方法,并把图型母版材料对软模具制造过程的影响进行了实验研究.研究表明,软模具图型质量仅和浇铸过程的充型压力有关,在0.05 Pa的真空压力下充型,光刻胶母版图型强度足够抵抗充型压力,所翻制的软模具复型精度为(97.24±0.60)%,复型精度方差为0.376%,在翻制软模具50次后,光刻胶母版图型无明显扭曲变形和缺损、污物.因此,采用光刻胶作为母版图型材料,不仅可以满足工艺精度的要求,而且可以提高生产率、降低生产成本.
- 秦歌丁玉成刘红忠
- 关键词：光刻胶
