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中国工程物理研究院发展基金(2010B0401056)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：王锋蒋晓东吴卫东唐永建更多>>
相关机构：中国工程物理研究院重庆交通大学更多>>
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相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇熔石英
  • 1篇非晶
  • 1篇表面等离子体

机构

  • 1篇重庆交通大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 1篇唐永建
  • 1篇吴卫东
  • 1篇蒋晓东
  • 1篇王锋

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
非晶熔石英表面等离子体刻蚀过程中的表面晶化研究
2012年
本工作采用电子回旋共振(ECR)低压等离子体刻蚀技术,刻蚀非晶熔石英表面.Ar/CF_4为反应气体刻蚀后再经O等离子体钝化,非晶熔石英表面出现晶化现象.晶化层约几百纳米厚.Ar/CF_4在ECR的电磁场作用下产生F离子与C离子,F离子使熔石英表面的Si-O共价键断裂,并释放出O离子.C离了与O离子迅速键合生成CO_2,而被断键的Si原子与四个F原子键合生成气态SiF4.熔石英原始表面被去除的同时,在新的表面留下大量不饱和Si原子.不饱和Si原子在高温条件下被O等离子钝化,形成结晶态α方石英.
王锋吴卫东蒋晓东唐永建
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