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国家自然科学基金(59802005)

作品数：2 被引量：9H指数：2
相关作者：王合英梁栋陈欢张智巍孙文博更多>>
相关机构：清华大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇微结构
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射气压
  • 1篇各向异性磁电...
  • 1篇薄膜微结构
  • 1篇饱和磁化强度
  • 1篇NI
  • 1篇镍
  • 1篇铁
  • 1篇FE
  • 1篇磁电
  • 1篇磁电阻
  • 1篇磁化
  • 1篇磁化强度
  • 1篇磁性
  • 1篇磁性分析

机构

  • 2篇清华大学

作者

  • 2篇王合英
  • 1篇茅卫红
  • 1篇陈默轩
  • 1篇孙文博
  • 1篇张智巍
  • 1篇黄贺生
  • 1篇刘军
  • 1篇陈欢
  • 1篇梁栋

传媒

  • 2篇清华大学学报...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2001
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响被引量：7
2007年
为改善Ni80Fe20薄膜的性能,研究不同溅射气压对薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响。用磁控溅射方法制备Ni80Fe20薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜分析其结构,用四探针方法测量其各向异性磁电阻。实验研究发现,较高的溅射气压下制备的Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻比较低,薄膜磁化到饱和需要的磁场也比较大。在较低的溅射气压(0.2、0.5 Pa)下制备的Ni80Fe20薄膜具有较高的各向异性磁电阻3.7%和4.2%,而且饱和磁化场低(低于1kA/m)。分析结果表明随着溅射气压的变化,Ni80Fe20薄膜的晶格常数、颗粒大小和均匀性等微结构发生变化,导致薄膜的各向异性磁电阻效应差别很大。
王合英陈欢梁栋张智巍孙文博
关键词：各向异性磁电阻溅射气压
FeNiN薄膜的制备及结构与磁性分析被引量：2
2001年
为了提高 Fe Ni化合物的饱和磁化强度 ,采用离子束辅助溅射沉积的方法对 Fe Ni薄膜进行掺氮 (N)的研究。实验中发现 ,掺氮后所生成的 Fe Ni N薄膜在结构上同 Fe Ni合金有相似之处 :N不与 Ni化合 ;在小掺镍量下 Ni以替代方式存在于薄膜中 ,在大的掺镍量下 Fe Ni N薄膜将有特定的相变发生。在磁性方面 ,得到了饱和磁化强度为 2 .0 T的Fe Ni N薄膜。
刘军王合英陈默轩茅卫红黄贺生
关键词：饱和磁化强度磁性
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