天津市重大科技攻关项目(043801211)
- 作品数：4 被引量：28H指数：3
- 相关作者：刘玉岭王娟李薇薇周建伟檀柏梅更多>>
- 相关机构：河北工业大学中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：天津市重大科技攻关项目更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 钽抛光及抛光机理的探究被引量：7
- 2006年
- 为拓宽CMP技术应用领域,研究了中国工程物理研究院机械制造工艺研究所提供的钽片的抛光,打破过去以机械加工为主的加工手段,采用提高化学作用的方法,加入螯合剂、有机碱、活性剂等助剂,对钽进行抛光。结果发现,钽表面的粗糙度较小,表面状态良好,说明增强化学作用可以提高抛钽效果。对钽的CMP机理做了分析与推测,为钽CMP进一步研究奠定了基础。
- 王娟刘玉岭张建新舒行军
- 关键词：钽化学机械抛光
- 蓝宝石衬底片的精密加工被引量：12
- 2006年
- 对SiO2磨料抛光蓝宝石衬底片进行了研究。结果表明,采用大粒径、高浓度的SiO2磨料抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。抛光的适宜温度及pH值条件为:T=30℃;12.0>pH值≥9.0。并且,在抛光时应加入适量添加剂,方可获得较为理想的表面状态和较高的去除速率。实验同样证明,这种低成本、高质量的抛光除了可以应用于蓝宝石的抛光以外,还可以应用在其它一些硬质材料的抛光工艺中。
- 王娟刘玉岭檀柏梅李薇薇周建伟
- 关键词：蓝宝石化学机械抛光硅溶胶
- 一种新型的LCD清洗剂被引量：3
- 2005年
- 详细分析了目前液晶显示屏狭缝中的污染物来源,通过大量实验利用有机碱、活性剂和JFC找到的一种新型LCD清洗液,并且达到了较好的清洗效果,形成了一整套新型的清洗技术。
- 李薇薇刘玉岭李广福
- 关键词：LCD有机碱活性剂
- 蓝宝石衬底片化学机械抛光的研究被引量：7
- 2005年
- 为了提高蓝宝石化学机械抛光（CMP）效果，对其抛光工艺进行了研究。采用SiO2磨料对蓝宝石衬底片进行抛光，分析了抛光时的温度、pH条件、磨料粒径及浓度，结果表明，采用80nm大粒径、高浓度的SiO2磨料，既可以保证抛光速率，又能得到良好的表面状；当pH值在10～12时，可加速蓝宝石在碱性条件下的化学反应速率，从而提高抛光速率；在30℃时，能较好地平衡化学作用与机械作用，获得平滑表面；加入适量添加剂，可增大反应产物的体积，易于提高机械作用的效果，以获得较高的去除速率。
- 王娟刘玉岭檀柏梅李薇薇周建伟牛新环
- 关键词：蓝宝石化学机械抛光纳米硅溶胶
