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国家自然科学基金(60137020)

作品数:5 被引量:16H指数:3
相关作者:吴荣汉韩勤牛智川佟存柱彭红玲更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇电子电信

主题

  • 2篇腔面
  • 2篇面发射
  • 2篇面发射激光器
  • 2篇激光
  • 2篇激光器
  • 2篇发射激光器
  • 2篇RCE
  • 2篇垂直腔
  • 2篇垂直腔面
  • 2篇垂直腔面发射
  • 2篇垂直腔面发射...
  • 2篇GAAS
  • 1篇电阻
  • 1篇调制
  • 1篇调制器
  • 1篇有源层
  • 1篇室温连续激射
  • 1篇腔内损耗
  • 1篇阈值电流
  • 1篇阈值特性

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇牛智川
  • 5篇韩勤
  • 5篇吴荣汉
  • 3篇彭红玲
  • 3篇佟存柱
  • 2篇倪海桥
  • 2篇杨晓红
  • 2篇杜云
  • 2篇张石勇
  • 2篇吴东海
  • 2篇赵欢
  • 1篇任正伟
  • 1篇梁琨
  • 1篇徐应强
  • 1篇贺振宏
  • 1篇李树英

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇物理学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 4篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
5 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
1.3μm GaAs基量子点垂直腔面发射激光器结构设计与分析被引量:6
2005年
结合垂直腔面发射激光器(VCSEL)原理以及量子点增益特点,计算了不同结构VCSEL的腔内损耗和量子点的模式增益.分析了激光器阈值特性以及氧化限制层对光损耗的影响.设计了含氧化限制层的1·3μm量子点VCSEL结构.
佟存柱牛智川韩勤吴荣汉
关键词:垂直腔面发射激光器GAASVCSEL阈值特性腔内损耗光损耗
室温连续激射1.3μm InAs/GaAs量子点激光器
用分子束外延(MBE)生长了含应力缓冲层的InAs量子点激光器.发现用InAlAs/InGaAs作为复合应力缓冲层可有效延展发光波长,增加基态和激发态的能量间隔,但量子点面密度过低.用InGaAs作为应力缓冲层,可使量子...
赵欢彭红玲佟存柱倪海桥张石勇吴东海韩勤牛智川吴荣汉
关键词:分子束外延量子点
文献传递
氧化限制型垂直腔面发射激光器串联电阻分析被引量:5
2005年
含氧化限制孔的VCSEL具有低的阈值电流,但氧化孔的存在也会加大串联电阻.本文采用理论模型,详细计算了氧化限制型VCSEL的串联电阻.把串联电阻分解为垂直方向电阻和横向电阻,分析了串联电阻与氧化孔半径的关系,提出了降低VCSEL串联电阻的具体方法.
佟存柱韩勤彭红玲牛智川吴荣汉
关键词:垂直腔面发射激光器串联电阻阈值电流
RCE photodiodes at wavelength band of 1.06
2003年
Resonant cavity enhancement (RCE) typed optical detector and modulator which operating at wavelength band of 1.06 μm is reported. The peak quantum efficiency of detector is reasonably high as 50% without bias, and the photocurrent contrast ratio of modulator is 3.6 times at -3.5 V as compared to 0 V. The incident angle dependence of RCE device’s photoelectric response is investigated carefully.
梁琨杨晓红杜云吴荣汉
关键词:ASNMMODE
超薄有源层谐振腔增强型调制器被引量:4
2004年
提出利用超薄有源层制备高性能谐振腔增强型 (RCE)半导体电吸收调制器件的可能性 ,并与波导型器件进行性能对比 ;对透射和反射两种类型器件优化分析了器件结构 ,进行了性能比较 ,结果表明 :在插入损耗相当的情况下 。
杨晓红梁琨韩勤牛智川杜云吴荣汉
关键词:调制器RCE
Material Growth and Device Fabrication of GaAs Based 1.3μm GaInNAs Quantum Well Laser Diodes被引量:1
2005年
Material growth and device fabrication of the first 1.3μm quantum well (QW) edge emitting laser diodes in China are reported. Through the optimization of the molecular beam epitaxy (MBE) growth conditions and the tuning of the indium and nitrogen composition of the GalnNAs QWs, the emission wavelengths of the QWs can be tuned to 1.3μm. Ridge geometry waveguide laser diodes are fabricated. The lasing wavelength is 1.3μm under continuous current injection at room temperature with threshold current of 1kA/cm^2 for the laser diode structures with the cleaved facet mirrors. The output light power over 30mW is obtained.
牛智川韩勤倪海桥杨晓红徐应强杜云张石勇彭红玲赵欢吴东海李树英贺振宏任正伟吴荣汉
共1页<1>
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