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湖北省自然科学基金(2010CDB04601)
作品数:
1
被引量:1
H指数:1
相关作者:
熊娟
秦杰
顾豪爽
钟伟明
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湖北大学学报...
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2012
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掺Ni的AlN薄膜稀磁半导体的制备及磁性研究
被引量:1
2012年
采用射频磁控溅射的方法制备掺Ni的AlN薄膜Al1-xNixN(x=0.021、0.047、0.064、0.082),薄膜样品沿AlN(100)晶向生长.利用振动样品磁强计研究其磁性能,发现样品在室温下均具有铁磁性,随Ni掺杂量的增加,饱和磁矩先减小后增大,最大矫顽力达104Oe.结合X线光电子能谱分析,推断掺杂Ni原子进入AlN晶格取代了Al的位置,样品的铁磁性可以用Ni与相邻N原子之间的p-d杂化机制来解释.
钟伟明
秦杰
熊娟
顾豪爽
关键词:
稀磁半导体
射频磁控溅射
室温铁磁性
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