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山西省自然科学基金(20041073)

作品数:7 被引量:5H指数:1
相关作者:张敏刚柴跃生孙钢罗春云马志华更多>>
相关机构:太原科技大学上海大学更多>>
发文基金:山西省自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 6篇理学
  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术

主题

  • 5篇光致
  • 5篇光致发光
  • 5篇发光
  • 4篇纳米
  • 3篇第一性原理
  • 3篇密度泛函
  • 3篇密度泛函理论
  • 3篇光学
  • 3篇泛函
  • 3篇泛函理论
  • 2篇电性质
  • 2篇态密度
  • 2篇模拟计算
  • 2篇纳米晶
  • 2篇纳米晶粒
  • 2篇光电性质
  • 2篇半导体
  • 2篇包埋
  • 2篇P-SI
  • 1篇三阶光学非线...

机构

  • 8篇太原科技大学
  • 2篇上海大学

作者

  • 8篇柴跃生
  • 8篇张敏刚
  • 4篇孙钢
  • 3篇马志华
  • 3篇罗春云
  • 2篇刘小鹏
  • 1篇伍静
  • 1篇杨扬
  • 1篇栾彩霞

传媒

  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇兵器材料科学...
  • 1篇山西冶金
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇Rare M...
  • 1篇太原科技大学...
  • 1篇材料研究与应...

年份

  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 4篇2005
7 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
Ge-SiO2纳米半导体颗粒膜发光特性研究的新进展
Ge-SiO纳米半导体颗粒膜在发光、激光、光开关、光通信等方面的应用极为广泛。本文针对Ge-SiO纳米半导体颗粒膜的发光特性,对Ge-SiO纳米薄膜的制备技术、影响其发光特性的因素及其发光机理的新的研究进展进行了综述。
刘小鹏柴跃生张敏刚
关键词:光致发光退火处理
文献传递
SiO_2中包埋纳米晶Si光电性质的计算
2009年
采用第一性原理平面波赝势方法计算了SiO2基质包埋不同尺寸纳米晶粒Si3和Si5的电子结构及光学性质。结果表明,随着包埋纳米晶粒尺寸的减小,包埋Si3结构的带隙比包埋Si5结构宽,但包埋Si5结构对可见光区的吸收优于包埋Si3结构。Si3结构的第一个吸收峰在约3.9eV处,Si5结构的第一个吸收峰在约4.6eV处。计算表明,Si纳米颗粒中Si原子数与包埋基质的分子数之比为45.46%是一种较好的结构参数,对可见光区吸收效果好。
柴跃生罗春云张敏刚伍静
关键词:第一性原理密度泛函理论态密度
半导体纳米颗粒镶嵌薄膜光学性能的研究及进展
2007年
由于三维量子限域效应的作用,半导体纳米颗粒镶嵌薄膜材料呈现出与块体材料完全不同的光学性能,如非线性光学效应、光致发光等。这些优良特性使半导体纳米颗粒镶嵌薄膜材料在光电器件、太阳能电池、传感器、新型建材等领域有广泛的应用前景,并日益成为关注焦点。从这种材料的内涵及大概分类出发,阐述了其相关的光学理论,如三维量子限域效应、光致发光的机制等,介绍了III-V族(GaAs,GaSb,InP等)和IV族(Si,Ge)半导体纳米颗粒镶嵌薄膜的光学性能方面的研究进展。
杨扬柴跃生张敏刚孙钢
关键词:光致发光非线性光学效应
化合物半导体/SiO_2纳米复合薄膜的研究现状
2005年
半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜具备准零维量子点的特征,这类材料具有三阶光学非线性系数大,响应快,功耗低等特点,在光开关、光存储及全光逻辑运算等领域有着广阔的应用前景。对半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜的主要制备方法-射频磁控共溅射法的基本原理及技术特点作了概要介绍。从镶嵌于介质中半导体纳米颗粒非线性光学性质的研究动态入手,分类评述了化合物半导体/SiO2纳米复合薄膜近年来的研究状况,指出了这类复合薄膜的研究重点和发展方向。
马志华柴跃生孙钢张敏刚
关键词:纳米复合薄膜非线性光学性质SIO2三阶光学非线性化合物半导体光开关
纳米材料第一性原理的模拟计算研究被引量:1
2009年
介绍了纳米材料模拟研究的现状、计算机模拟研究纳米材料的优越性及模拟研究所使用的第一性原理和基于第一性原理的几种主要方法及其运用,提出了第一性原理模拟研究纳米材料所存在的问题和建议.
罗春云柴跃生张敏刚
关键词:模拟计算第一性原理纳米材料密度泛函理论
SiO_2基质中包埋纳米晶Si光电性质的模拟计算被引量:1
2008年
采用第一性原理方法,研究了SiO2基质中包埋纳米晶Si的电子结构及光学性质。结果表明:位于约1.7eV的吸收峰是–0.59eV能级上的电子向由价键畸变产生的1.2eV能级跃迁的结果。纳米Si粒中含不饱和键的Si原子的p轨道对可见光区光的吸收有主要的贡献。同时由于这些缺陷引入的能级使价带、导带在Fermi面发生交叠而表现出导电性。
柴跃生罗春云张敏刚
关键词:第一性原理密度泛函理论态密度
Structure and optical characterization of GaP-SiO_2 co-sputtered films
2008年
The films of GaP nanocrystals embedded in SiO2 matrix were prepared by radio frequency magnetron co-sputtering and subsequent anneal- ing technology. The structure and morphology of the films were investigated by scanning electron microscope, X-ray diffraction, and energy dispersive spectrum. Raman spectra results showed that the transverse optical phonon model (TO) and the longitudinal optical phonon model (LO) of GaP nanocrystals were both discovered to undergo red shift, broadening, and asymmetry. The red shift degree of the TO model was about 8.8 cm-1. The luminescence spectrum of the GaP/SiO2 film consisted of several emission peaks. 2.84-2.54 eV blue light emission was explained by the quantum confinement-luminescence centers model (QC-LCs).
CHAI YueshengYANG MeihuiZHANG MingangSUN Gang
关键词:半导体材料光致发光
射频磁控溅射技术制备Ge-SiO_2薄膜的结构和光学特性研究被引量:3
2005年
用射频共溅射技术和后退火的方法,制备出埋入SiO2基质中的Ge纳米晶复合膜(ncGe/SiO2)。用XRD对薄膜的晶体结构进行了测试,未经退火的样品呈现非晶状态,600℃退火后的薄膜中开始有Ge纳米晶粒出现。研究了薄膜的Raman散射光谱,发现了其红移和宽化现象。测量了薄膜的光致发光谱,所有样品都在394nm处发出很强的光,随着Ge纳米晶粒的出现,样品有310nm和625nm处的光发出,其强度随晶粒平均尺寸的增大而增强。
栾彩霞柴跃生孙钢马志华张敏刚
关键词:SIO2薄膜光学纳米晶粒光致发光谱复合膜XRD
纳米InP-SiO2复合薄膜的制备和光学特性研究
采用射频磁控共溅射与高真空退火相结合的方法,在单晶Si(100)上制备了InP-SiO纳米晶镶嵌薄膜样品。在结构和光学性能上对薄膜进行了多方面的测试和分析,EDS表明复合膜中In和P元素基本符合化学配比;XRD和Rama...
马志华柴跃生张敏刚孙钢刘小鹏
关键词:射频磁控纳米晶粒拉曼散射光致发光
文献传递
共1页<1>
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