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国家自然科学基金(U0635002)

作品数:9 被引量:46H指数:4
相关作者:潘国顺戴媛静刘岩朱永华史宝军更多>>
相关机构:清华大学清华大学研究院山东建筑大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国际科技合作与交流专项项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇机械工程
  • 3篇自动化与计算...
  • 3篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇化学机械抛光
  • 5篇机械抛光
  • 4篇抛光
  • 3篇硬盘
  • 3篇抛光液
  • 2篇硬盘驱动
  • 2篇硬盘驱动器
  • 2篇驱动器
  • 2篇静态特性
  • 1篇低飞
  • 1篇动力学
  • 1篇动态特性
  • 1篇乙烯
  • 1篇振动
  • 1篇铜表面
  • 1篇去除速率
  • 1篇子力
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇聚苯
  • 1篇聚苯乙烯

机构

  • 5篇清华大学
  • 4篇清华大学研究...
  • 3篇山东建筑大学
  • 2篇南洋理工大学
  • 1篇华南理工大学

作者

  • 5篇潘国顺
  • 4篇戴媛静
  • 4篇刘岩
  • 3篇朱永华
  • 3篇史宝军
  • 2篇杨廷毅
  • 2篇雒建斌
  • 1篇张健
  • 1篇孙磊厚
  • 1篇龚剑锋
  • 1篇姜华
  • 1篇朱文坚
  • 1篇杜运东
  • 1篇孙亚军
  • 1篇陈扬枝
  • 1篇舒东伟
  • 1篇裴惠芳
  • 1篇孙家振
  • 1篇吴彦华

传媒

  • 3篇润滑与密封
  • 1篇现代制造工程
  • 1篇材料保护
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇计算力学学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇山东建筑大学...

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 4篇2009
  • 2篇2007
9 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
不锈钢超精抛光蜡的研制被引量:2
2011年
目前,国产不锈钢超精抛光蜡不能满足市场需求,对其配方研制报道较少。为此,对不锈钢粗抛光后,采用超精抛光蜡进行精抛光,对其组分进行了筛选:以α型氧化铝粉为抛光磨料;以混合硬脂酸作抛光内脂;利用油酸的润滑作用降低不锈钢表面的抛光温度,利用三乙醇胺与有机酸的皂化反应生成物润滑和清洁不锈钢表面;利用松香和石油磺酸钡提高不锈钢表面的光泽度。获得的抛光蜡最佳组成:22.5 g硬脂酸4,.5 g油酸0,.5 g三乙醇胺0,.5 g石油磺酸钡,2.5 g水白氢化松香,69.5 g氧化铝粉。经该超精抛光蜡抛光后不锈钢表面光泽度可达690.6。不锈钢超精抛光蜡的抛光机理:硬脂酸在铁表面产生化学吸附形成单分子层硬脂酸铁皂膜,该润滑膜在金属表面附着力大,使边界润滑能力大为提高,从而消除了氧化铝粉体磨削过程中可能带来的微细划痕。
朱永华潘国顺刘岩
关键词:不锈钢光泽度
颗粒等抛光液组分对硬盘盘基片抛光的影响被引量:5
2007年
硬盘盘基片粗抛光必须在较高材料去除率的基础上获得高表面质量。分别用合成法和粉碎法制得的α-A l2O3颗粒做了抛光实验,并分析了抛光液中氧化剂、络合剂含量和抛光液pH值对材料去除率的影响机制。结果表明:用合成法制得的颗粒抛光后基片表面凹坑严重,降低抛光液配方中氧化剂的含量,虽可使表面粗糙度(Ra)和表面波纹度(Wa)大幅降低,但材料去除率也大幅下降,该颗粒不适合基片粗抛光;用粉碎法制得的颗粒抛光后基片表面划痕密集,加入一定量的减阻剂后基片Ra和Wa大幅降低,材料去除率有所降低但仍维持在较高的水平,因此减阻剂可平衡该颗粒的材料去除率和抛光表面质量;粉碎法制得的颗粒抛光液中,随氧化剂和络合剂的增加,材料去除率均呈先升后降趋势;pH值的升高会使材料去除率下降,但酸性太强会引起过腐蚀,适宜的pH在2.0-3.0之间。
孙家振潘国顺朱永华戴媛静雒建斌李维民
关键词:化学机械抛光材料去除率
抛光液pH值等对硬盘玻璃盘基片化学机械抛光的影响被引量:4
2007年
随着硬盘存储密度的增大、转速的提高、磁头飞行高度的降低,对硬盘基板材料及基板表面质量提出了更高的要求。采用纳米SiO2作为抛光磨料,在不同抛光液条件下(pH值、表面活性剂、润滑剂等),对玻璃基片化学机械抛光去除速率和表面质量的变化规律进行了研究,并利用原子力显微镜(AFM)和光学显微镜观察了抛光表面的微观形貌。结果表明,玻璃基片去除速率在酸性、碱性条件下变化趋势相近,即随着pH值的升高,材料去除速率先增大后减小。加入一定量的表面活性剂和润滑剂使得去除速率有一定程度的下降,但是表面粗糙度明显降低,并且表面没有出现颗粒吸附现象。
朱永华潘国顺戴媛静雒建斌刘岩
关键词:化学机械抛光表面粗糙度
硬盘抗冲击振动特性的研究进展被引量:8
2009年
硬盘驱动器是计算机最重要的外存储设备。由于硬盘抗冲击振动问题的重要性和复杂性,许多研究者对此问题从各个方面进行了研究。本文从硬盘的基本结构和工作原理入手,介绍了磁头/磁盘系统的静动态特性,分析了影响磁头/磁盘系统性能的重要因素及其原理,并对国内外有关提高硬盘抗冲击振动性能的研究进行了较为系统的回顾和分析,最后阐述了硬盘冲击振动的控制研究,分析了硬盘目前所面临的关键问题及其可能的解决方案。
史宝军孙亚军舒东伟姜华杨廷毅
关键词:硬盘驱动器振动静态特性动态特性
钛基片的化学机械抛光技术研究被引量:5
2011年
采用化学机械抛光(CMP)方法对钛基片进行纳米级平坦化处理,通过系列抛光试验优化抛光液组成和抛光工艺条件后,得到AFM-Ra为0.159 nm的纳米级抛光表面和156.5 nm/min的抛光速率.抛光液的电化学分析结果表明:二氧化硅颗粒和乳酸在钛表面有不同程度的吸附缓蚀作用,氨水和F-的络合、扩散作用能破坏缓蚀膜层,两者的中间平衡状态才能得到最佳抛光效果.抛光后钛表层XPS测试结果显示钛表层经过化学氧化形成疏松氧化层后,再通过磨粒和抛光垫的机械作用去除.
戴媛静裴惠芳潘国顺刘岩
关键词:化学机械抛光
化学机械抛光技术研究现状与展望被引量:17
2009年
化学机械抛光技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化。本文综述了CMP的技术原理和CMP设备及消耗品的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望。
张健史宝军杜运东杨廷毅
关键词:化学机械抛光
磁头/磁盘间分子力对超低飞行高度浮动块动力学性能的影响
当磁头/磁盘之间的间隙小于5nm时,由于磁头/磁盘间分子力的存在,气膜浮动块的运动会变得不稳定,此时就不能忽略磁头/磁盘间分子力对气膜浮动块动力学特性的影响。本文根据Lennard-Jones的势能曲线求解分子力,同时考...
史宝军李鸿秋宋世军舒东伟谷宾
关键词:硬盘驱动器分子力动力学
文献传递
磁头/磁盘系统静态特性实验研究
2009年
通过实验来研究磁盘转速对磁头飞行姿态和磁头读写性能的关系。研究表明:磁头滑块飞行高度和俯仰角伴随着磁盘转速的增大而增大;磁盘转速增大,磁头飞行高度增加,降低了磁头读出信号的能力,与此同时,信噪比也大幅下降。实验研究结果为磁头/磁盘结构设计提供了依据。
吴彦华孙磊厚陈扬枝朱文坚
关键词:飞行高度
Analysis on Dynamic Characteristics in Time Domain of Slider with Ultra Thin Spacing被引量:2
2012年
With increasing recording density in computer hard disks,the flying height of the magnetic head becomes 10 nm or less.The numerical method of the control equations needs to be optimized consistently with the decrease of the flying height.The iterative process is usually divergent with traditional methods which cannot ensure the accuracy of the analysis results and the stability of numerical calculations.Firstly,a new scheme is presented to solve the ultra-thin lubricating control equations in this paper.The equilibrium equation is obtained by taking the Couette flow terms and time term as dominating terms in iterative process.Moreover,the weighting flow factor is introduced for the abrupt change of film thickness in order to reduce calculated deviation.Secondly,the rules for variation of flying pose of the magnetic head with time are obtained by the time domain analysis.The results show that the magnetic head can recover to the equilibrium position after being slightly influenced by outside disturbance.And the dynamic lubrication properties of the head suffer heavily from the vibrations in the height direction and fluctuation in the pitch direction.Finally,the analysis of the sine roughness-passing capacity of the head indicates that the head can surpass small sine waves and the equilibrium position can be retrieved after a period of decaying oscillation.The proposed research ensures the accuracy and stability of the numerical calculation of the control equations,and the dynamic characteristics and flying stability of a magnetic head is studied systematically.It can also be the theoretical basis for the analysis of the flight characteristics of the slider.
YAO HuapingHUANG PingCHEN YangzhiZHU Lixue
聚苯乙烯(PS)颗粒抛光液特性对铜表面化学机械抛光的影响被引量:3
2010年
铜互连与低-k介质在集成电路制造中的应用对表面平坦化提出更高的要求。为改善铜层化学机械抛光(Cu-CMP)效果,将聚苯乙烯(PS)颗粒应用于铜的化学机械抛光液,分析PS颗粒抛光液中氧化剂、络合剂、pH值、粒径及颗粒含量对铜的化学机械抛光性能的影响,并通过静态腐蚀及电化学手段对PS颗粒在抛光液中的化学作用进行了分析。实验结果表明,当以过氧化氢(H2O2)为氧化剂,氨基乙酸(C2H5NO2)为络合剂时,优化后的PS颗粒抛光液取得了较高的铜抛光去除速率,达到1μm/min,同时发现PS颗粒的加入增强了抛光液的化学腐蚀作用。
龚剑锋潘国顺戴媛静刘岩
关键词:化学机械抛光去除速率
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