国家大学生创新性实验计划(101028727)
- 作品数：1 被引量：2H指数：1
- 相关作者：余乐刘建宁刘亚妮曹安李子全更多>>
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- 溅射气压和衬底温度对Si_(1-x)Ge_x薄膜结构和光吸收性能的影响被引量：2
- 2012年
- 采用射频磁控溅射法沉积了Si1-xGex薄膜,研究了溅射气压、衬底温度对薄膜结构、厚度、表面形貌、表面成分及光吸收性能的影响。结果表明:薄膜均为微晶结构且相组成不随溅射气压和衬底温度的改变而改变;随着溅射气压升高,薄膜结晶性能降低,升高衬底温度使其结晶性能提高;随气压或温度的升高,薄膜厚度均先增大后减小,在1.0Pa或400℃达到最大值;随温度的升高,薄膜表面团簇现象消失并变得平整致密,气压为8.0Pa时,表面有孔洞和沟道;随气压升高,薄膜中锗含量降低,光吸收强度减小,光学带隙增大;衬底温度的变化对光学带隙影响不大。
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- 关键词：溅射气压衬底温度
