塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室开放基金(06-9)
- 作品数：4 被引量：18H指数：3
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- 直流辉光放电等离子体鞘层流体动力学模拟
- 本文利用流体动力学方法,对直流辉光放电阴极鞘层区域氮离子输运过程进行了数值模拟研究,将离子与中性分子间的动量交换碰撞引入离子在阴极鞘层区的运动方程,讨论了不同气压、不同初始离子密度比例对氮等离子体阴极鞘层区N+、N2+离...
- 姚红冉李明吕少波张海明蔺增巴德纯
- 关键词：流体动力学直流辉光放电鞘层数值模拟
- 文献传递
- 含氢非晶碳膜可见光拉曼与紫外拉曼光谱的对比研究
- 本文利用等离子体增强化学气相沉积技术,在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂片上沉积了含氢非晶碳(a-C:H) 膜,利用可见光和紫外激发双波段的拉曼光谱分析了所沉积薄膜的结构特征,并对两种拉曼光谱进行了比较研究。测试分析结果...
- 王凤李明周福君蔺增巴德纯
- 关键词：含氢非晶碳膜紫外拉曼
- 文献传递
- 自偏压对含氢非晶碳膜光学特性的影响被引量：5
- 2007年
- 利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)方法,以CH4、Ar和H2为气源,在CR-39树脂材料上制备出了含氢非晶碳膜(a-C∶H膜)。研究了不同偏压对a-C∶H膜生长过程和光学特性的影响。使用激光拉曼光谱(Raman)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)对样品的结构和成分进行了表征,分别使用纳米压痕仪和紫外一可见光分光光度计测试了样品的机械和光学特性。结果表明,自偏压对a-C:H膜的生长具有重要影响。随着自偏压的升高,所沉积a-C∶H膜中的sp3含量降低,薄膜的硬度和光学透过率也下降。
- 蔺增巴德纯王凤李明
- 关键词：含氢非晶碳膜等离子体增强化学气相沉积光学特性
- 含氢非晶碳膜可见光拉曼与紫外拉曼光谱的对比研究
- 本文利用等离子体增强化学气相沉积技术,在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂片上沉积了含氢非晶碳(a-C:H)膜,利用可见光和紫外激发双波段的拉曼光谱分析了所沉积薄膜的结构特征,并对两种拉曼光谱进行了比较研究。测试分析结果表...
- 王凤李明周福君蔺增巴德纯
- 关键词：含氢非晶碳膜紫外拉曼
- 文献传递
- 含氢类金刚石碳膜的拉曼光谱洛伦兹分解被引量：6
- 2007年
- 利用射频等离子体增强化学气相沉积(rf PECVD)工艺在不锈钢基底上制备a-C:H膜,利用激光Raman光谱表征所沉积碳膜的微观结构,特别是通过对拉曼谱图进行洛伦兹分解来评价所沉积碳膜的sp3含量,分析了沉积电压和过渡层对a-C:H膜生长过程及膜中sp3含量的影响.结果表明,利用拉曼光谱的洛伦兹分解能够有效分析a-C:H的结构特性,碳膜沉积过程中沉积电压和过渡层对a-C:H膜的生长均具有重要影响.在本实验条件下,以Ti/TiN/TiC为过渡层沉积电压为2500 V时所制备的a-C:H膜中的sp3含量最高.
- 蔺增巴德纯王凤
- 关键词：等离子体增强化学气相沉积拉曼光谱
- Ti/TiN/TiC/DLC固体膜润滑特性实验研究被引量：5
- 2007年
- 提出一种新型复合固体润滑膜,并讨论了该复合膜的结构和作用机理。复合结构的基本组成是传统硬质涂层TiN和TiC的结合,最上面的固体润滑膜是用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)方法沉积的类金刚石(DLC)膜。分别用紫外拉曼光谱仪和扫描电子显镜分析薄膜的显微结构和表面形貌,用摩擦磨损实验机测定薄膜的摩擦学特性。结果表明,所制备的薄膜为类金刚石膜,薄膜表面含有大量的类石墨的sp2,能有效的担负固体润滑膜的功能。摩擦过程中产生的转移层也有助于减摩功能的实现。
- 李明王凤蔺增巴德纯
- 关键词：固体润滑膜类金刚石膜等离子体增强化学气相沉积
- 直流辉光放电等离子体鞘层流体动力学模拟
- 本文利用流体动力学方法,对直流辉光放电阴极鞘层区域氮离子输运过程进行了数值模拟研究,将离子与中性分子间的动量交换碰撞引入离子在阴极鞘层区的运动方程,讨论了不同气压、不同初始离子密度比例对氮等离子体阴极鞘层区N+、N2+离...
- 姚红冉李明吕少波张海明蔺增巴德纯
- 关键词：流体动力学直流辉光放电鞘层数值模拟
- 文献传递
- 射频PECVD方法生长含氢非晶碳膜的结构及摩擦学性能被引量：2
- 2007年
- 利用射频等离子体增强化学气相沉积技术在不锈钢表面制备了含氢非晶碳膜.采用Raman光谱、红外光谱、X射线光电子能谱和原子力显微镜等研究了薄膜的微观结构和表面形貌,在栓盘摩擦磨损试验机上考察了薄膜在不同载荷与滑动速度下的摩擦学性能.结果表明:所制备的含氢非晶碳膜具有典型的类金刚石结构特征,薄膜均匀、致密,表面粗糙度小;薄膜与不锈钢球对磨时显示出良好的抗磨减摩性能;薄膜的抗磨减摩性能同对磨件表面上形成的转移膜以及摩擦过程中薄膜结构的石墨化相关.
- 李明蔺增王凤巴德纯
- 关键词：含氢非晶碳膜摩擦学性能
