国家自然科学基金(50271065)
- 作品数：7 被引量：27H指数：3
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- 相关机构：浙江大学南洋理工大学浙江理工大学更多>>
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- 相关领域：电子电信一般工业技术理学化学工程更多>>
- 铝表面SiO_X薄膜结合性能与机理研究被引量：1
- 2006年
- 应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOX陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑与内部孔洞联合长大,形成长条裂纹状沟槽或突脊,最后裂纹长大直至断裂。研究表明,基底与膜层结合良好,形成高结合力的原因是铝基底与表面SiO膜层间过渡层中的AlO与SiO键合能很高,键合稳定。
- 张际亮郦剑沃银花王幼文甘正浩
- 关键词：铝基SIOX薄膜结合力
- 铝表面改性SiOX薄膜力学性能研究
- 采用常压化学气相沉积(APCVD)技术在铝基底上成功制备了改性 SiO 陶瓷薄膜。通过显微硬度测试与涂层附着力自动划痕测试定量研究了薄膜显微硬度和膜基结合强度,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的...
- 张际亮孙学鹏郦剑沃银花
- 关键词：化学气相沉积显微硬度表面形貌
- 文献传递
- 硅烷的危险特性及安全操作被引量：14
- 2004年
- 硅烷作为一种提供硅组分的气体源 ,广泛应用于微电子、光电器件以及高纯度多晶硅生产 ,潜在应用前景更为广阔。随着硅烷应用领域的扩大 ,硅烷安全使用和处理已成为首要的问题。通过对硅烷着火的研究和事故分析表明 ,硅烷的危险特性在于它与氧反应的极强活性 :自燃 ,着火下限低 ,燃烧能量大。由于硅烷的自燃特性 ,对它的安全防范 ,与一般的易燃易爆物质相比 ,除一些共同点之外 ,还有显著的不同之处。在操作中必须预防高浓度硅烷与氧接触发生自燃着火。同时还必须防止硅烷泄漏在有限的空间内与氧混合 ,形成不稳定爆炸性气团。笔者综合分析和研讨了硅烷着火和爆炸的最新进展和成果 ,在实践经验和分析典型硅烷事故的基础上 ,提出了处理和使用硅烷的安全操作要点。
- 沃银花王勇姚奎鸿
- 关键词：硅烷危险特性安全技术化学品安全事故
- 铝基硅氧化物陶瓷薄膜摩擦磨损性能研究
- 在纯铝基底上通过低温常压化学气相沉积（APCVD）方法制备了硅氧化物SiOx陶瓷膜层,实现了铝表面改性。利用扫描电子显微镜（SEM）观察膜层表面、截面以及90°折弯试样的截面形貌,结果表明膜层表面为球状或等轴状陶瓷颗粒,...
- 张际亮郦剑沃银花刘立
- 关键词：铝摩擦磨损性能
- 文献传递
- 铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究
- 2005年
- 本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层。以黄铜为对磨材料 ,使用销 -盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能 ,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理。结果表明纯铝表面发生粘着磨损 ,存在大量塑性变形和折叠 ,导致片状脱落 ,磨损率高 ;SiOx薄膜硬度较高 ,存在孔隙 ,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损 ;因薄膜孔隙具有储存润滑剂 (水 )的作用 ,磨损率明显低于对比纯铝样品 ;随沉积时间增加 ,SiOx膜层变厚 ,承载能力提高 ,磨损量减小。
- 张际亮沃银花郦剑甘正浩
- 铝表面改性SiO_x薄膜力学性能研究被引量：3
- 2007年
- 采用常压化学气相沉积(APCVD)技术在铝基底上成功制备了改性SiO_x陶瓷薄膜。通过显微硬度测试与涂层附着力自动划痕测试定量研究了薄膜显微硬度和膜基结合强度,利用光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的原始表面以及压痕、划痕形貌。结果表明,SiO_x膜层由大小不均匀的等轴状颗粒团聚堆垛而成,退火处理时长大或融合成片状;SiO_x薄膜有效提高纯铝表面的硬度,并能通过SiO_x薄膜变形以松弛表层应力,抑制脆性裂纹产生;划痕测试证明基底和薄膜具有很高的结合强度,薄膜与基底发生塑性变形而不剥离。
- 张际亮孙学鹏郦剑沃银花
- 关键词：SIOX薄膜AL合金化学气相沉积显微硬度表面形貌
- 铝基APCVD沉积SiO_x膜层的光学性能研究被引量：1
- 2005年
- 采用低温常压化学气相沉积(APCVD)的方法在铝基底上制备硅氧化物陶瓷膜层.采用XPS、XRD、HRTEM、UV-VAS和NIRS等技术分析膜层的成分、结构组织和形貌特征,并测试了膜层的光学吸收性能.研究结果表明,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,硅氧化物陶瓷膜层大部分为非晶态组织,包含少量局部有序区域.SiOx陶瓷膜层沉积在铝基上后具有很高的紫外-可见光吸收率和较高的近红外光吸收率,产生机制是硅氧化物陶瓷膜层中氧空位存在局域电子态,电子吸收能量产生能级跃迁.
- 张际亮沃银花郦剑甘正浩徐亚伯
- 关键词：显微结构
- 铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能被引量：4
- 2004年
- 采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒—颗粒嵌镶堆垛—融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60～1∶1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性。
- 张际亮郦剑沃银花王幼文沈复初甘正浩
- 关键词：铝基
- CdTe/CdS太阳能电池材料的研究进展被引量：6
- 2005年
- 综述了 CdTe 和 CdTe 材料的制备方法、后续处理工艺、缺陷和界面问题,指出了 CdTe/CdS 太阳能电池材料研究所面临的问题,提出了未来研究的几个设想。
- 沃银花
- 关键词：太阳能电池材料CDTECDS处理工艺
