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国家自然科学基金(NSF50730009)
作品数:
1
被引量:2
H指数:1
相关作者:
闫桂珍
杨振川
丁海涛
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相关机构:
北京大学
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
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深刻蚀
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反应离子深刻...
机构
1篇
北京大学
作者
1篇
丁海涛
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杨振川
1篇
闫桂珍
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电子学报
年份
1篇
2010
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反应离子深刻蚀中加强热传递和抑制Notching效应的方法
被引量:2
2010年
提出了一种在反应离子深刻蚀中既可以加强热传递又可以抑制notching效应的方法,尤其适用于含有细长梁结构的刻蚀.通过在硅结构的下表面溅射一薄层金属,以加强刻蚀过程中产生的热量的消散,降低了硅结构的温度.用有限元仿真和实验分别验证了该方法的有效性.同时,金属层也抑制了刻蚀离子所带电荷在绝缘介质层上的积累,防止了自建电场的产生,抑制了notching效应.该方法通过扫描电子显微镜的测量也得到了实验验证.加工了一个SOI梳齿驱动器,检验了本方法的有效性和适应性.
丁海涛
杨振川
闫桂珍
关键词:
反应离子深刻蚀
热传递
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