您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(10274103)

作品数:6 被引量:24H指数:2
相关作者:韩秀峰魏红祥詹文山李飞飞王天兴更多>>
相关机构:中国科学院北京有色金属研究总院北京工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 4篇隧道结
  • 4篇磁性隧道结
  • 3篇电阻
  • 3篇随机存储器
  • 3篇隧穿
  • 3篇隧穿磁电阻
  • 3篇磁电
  • 3篇磁电阻
  • 3篇存储器
  • 2篇磁随机存储器
  • 1篇电流驱动
  • 1篇电性质
  • 1篇动态随机存储...
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁电极
  • 1篇热氧化
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇硅衬底

机构

  • 4篇中国科学院
  • 1篇北京有色金属...
  • 1篇北京工业大学

作者

  • 4篇韩秀峰
  • 3篇魏红祥
  • 2篇曾中明
  • 2篇王天兴
  • 2篇杜关祥
  • 2篇李飞飞
  • 2篇詹文山
  • 1篇应启明
  • 1篇严辉
  • 1篇彭子龙
  • 1篇于敦波
  • 1篇赵素芬
  • 1篇张谢群
  • 1篇杜永胜
  • 1篇张爱国
  • 1篇丰家峰
  • 1篇张国成

传媒

  • 4篇物理学报
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
6 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
4英寸热氧化硅衬底上磁性隧道结的微制备被引量:13
2004年
就如何在 4英寸热氧化硅衬底上沉积高质量的磁性隧道结纳米多层薄膜材料和如何利用光刻方法微加工制备均匀性较好的磁性隧道结方面做了初步研究 ,并对磁性隧道结的磁电性质及其工作特性进行了初步测量和讨论 .利用现有的光刻设备和工艺条件在 4英寸热氧化硅衬底上直接制备出的磁性隧道结 ,其结电阻与面积的积矢的绝对误差在 10 %以内 ,隧穿磁电阻的绝对误差在 7%以内 ,样品的磁性隧道结性质具有较好的均匀性和一致性 。
王天兴魏红祥李飞飞张爱国曾中明詹文山韩秀峰
关键词:磁性隧道结隧穿磁电阻电性质硅衬底磁随机存储器热氧化
成分调制的La_(1-x)Sr_xMnO_3复合隧道结被引量:8
2005年
利用磁控溅射和Sr成分的调制以及原位热处理方法,在10mm×10mm大小的(001)取向SrTiO3单晶衬底上制备出三明治结构为La0·7Sr0·3MnO3(100nm)/La0·96Sr0·04MnO3(5nm)/La0·7Sr0·3MnO3(100nm)的隧道结外延薄膜,然后再次利用磁控溅射方法,在三层单晶膜上方继续沉积Ir22Mn78(15nm)/Ni79Fe21(5nm)/Pt(20nm)等金属三层膜.最后利用深紫外曝光和Ar离子束刻蚀等微加工技术,制备出长短轴分别为12和6μm或者8和4μm大小的椭圆形La1-xSrxMnO3成分调制的复合磁性隧道结.在4·2K和外加磁场8T的测试下,La1-xSrxMnO3成分调制的复合磁性隧道结其隧穿磁电阻(TMR)比值达到3270%,直接从实验上证实了铁磁性La0·7Sr0·3MnO3金属氧化物的自旋极化率(97%)可接近100%,具有很好的半金属性质.
于敦波丰家峰丰家峰杜永胜韩秀峰严辉应启明
关键词:LA1-XSRXMNO3半金属隧穿磁电阻磁性隧道结
86% TMR at 4.2 K for Amorphous Magnetic-Tunnel-Junctions with Co_(60)Fe_(20)B_(20) as Free and Pinned Layers
2005年
Single barrier magnetic-tunnel-junctions (MTJs) with the layer structure of Ta(5)/Cu(30)/Ta(5)/Ni79Fe21(5)/Ir22 Mn78(12)/Co60Fe20B20(4)/Al(0.8)-oxide/Co60Fe20B20(4)/Cu(30)/Ta(5) [thickness unit: nm] using the amorphous Co60Fe20B20 alloy as free and pinned layers were micro-fabricated. The experimental investigations showed that the tunnel magnetoresistance (TMR) ratio and the resistance decrease with increasing dc bias voltage from 0 to 500 mV or with increasing temperature from 4.2 K to RT. A high TMR ratio of 86.2% at 4.2 K, which corresponds to the high spin polarization of Co60Fe20B20, 55%, was observed in the MTJs after annealing at 270℃ for 1 h. High TMR ratio of 53.1%, low junction resistance-area product RS of 3.56 kΩμm2, small coercivity HC of ≤4 Oe, and relatively large bias-voltage-at-half-maximum TMR with the value V1/2 of greater than 570 mV at RT have been achieved in such Co-Fe-B MTJs.
Rehana Sharif
关键词:SPIN-POLARIZATIONMRAM
高磁电阻磁性隧道结的几种微制备方法研究
2005年
利用金属掩模法优化了制备磁性隧道结的实验和工艺条件,金属掩模的狭缝宽度为100μm.采用4nm厚的Co75Fe25为铁磁电极和1·0或0·8nm厚的铝氧化物为势垒膜,直接制备出了室温隧穿磁电阻(TMR)为30%—48%的磁性隧道结,其结构为Ta(5nm)/Cu(25nm)/Ni79Fe21(5nm)/Ir22Mn78(10nm)/Co75Fe25(4nm)/Al(0·8nm)-O/Co75Fe25(4nm)/Ni79Fe21(20nm)/Ta(5nm).同时,利用刻槽打孔法和去胶掀离法两种光刻技术并结合Ar离子束刻蚀及化学反应刻蚀,制备出面积在4μm×8μm—20μm×40μm、具有室温高TMR和低电阻的高质量磁性隧道结.300℃退火前后其室温TMR可分别达到22%和50%.研究结果表明,采用光刻中的刻槽打孔或去胶掀离工艺方法制备的小尺寸磁性隧道结,可用于研制磁动态随机存储器和磁读出头及其他传感器件的磁敏单元.
李飞飞张谢群杜关祥王天兴曾中明魏红祥韩秀峰
关键词:磁性隧道结动态随机存储器隧穿磁电阻离子束刻蚀铁磁电极M-20
磁随机存储器中垂直电流驱动的磁性隧道结自由层的磁化翻转被引量:1
2006年
在基于磁性隧道结(Magnetic Tunneling Junction,MTJ)的磁随机存储器(Magnetoresistantive Random Access Memory,MRAM)中利用通过MTJ的垂直电流,实现信息写入的新方法,同时给出了基于此新方法的一种新的MRAM结构和驱动原理图,并分析了它的读和写操作的可行性具体过程.
彭子龙韩秀峰赵素芬魏红祥杜关祥詹文山
关键词:磁性隧道结磁随机存储器
共1页<1>
聚类工具0