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省部共建河南大学科研项目(SBGJ090502)
作品数:
1
被引量:1
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相关作者:
杨莹泽
翟玉浩
张平余
张玉娟
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相关机构:
河南大学
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发文基金:
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2012
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Ti-Si-N纳米复合薄膜的制备及其力学性能
被引量:1
2012年
采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备Si含量(摩尔分数)为3.2%~15.5%范围内的TiSiN薄膜。采用X射线光电子能谱(XPS)、电子散射谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)研究TiSiN薄膜的显微结构和力学性能。结果表明:低Si含量的薄膜以面心立方晶型的Ti(Si)N固溶体形式存在,择优晶面为(200)面;当Si含量饱和后,出现Ti(Si)N和Si3N4非晶相,形成Ti(Si)N/Si3N4纳米复合结构。薄膜硬度范围在22~26GPa,采用Si3N4小球为对偶时薄膜的摩擦因数均维持在0.13~0.17之间。Si含量为10.9%时,硬度达最大值,结合较低的粗糙度,使其摩擦因数和磨损率达到最低值。
杨莹泽
张玉娟
翟玉浩
张平余
关键词:
TI-SI-N
纳米复合薄膜
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