国家自然科学基金(50675116)
- 作品数：4 被引量：6H指数：1
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- 相关领域：机械工程更多>>
- 内凹面磁流变槽路抛光方法的研究被引量：1
- 2010年
- 针对高陡度非球面光学元件的内凹面抛光难题,提出了一种内凹面磁流变槽路抛光方法。设计与待加工内凹面形状匹配的凸模,并在凸模上开出供磁流变液循环通过的槽路,当磁流变液经过设有磁场的区域时发生流变作用形成柔性抛光磨头对内凹面产生材料去除作用。通过工件的旋转和外部磁极的移动完成对整个内凹面的抛光加工。建立了实验平台并开展了相关初步实验和分析。结果表明该方法能够适应内凹面抛光加工的需要,可获得较高表面质量,具有一定的可行性和应用潜力。
- 左巍张云辛科冯之敬赵广木
- 关键词：长径比磁流变抛光
- 公自转磁流变抛光循环装置及其稳定性被引量：3
- 2010年
- 磁流变抛光中磁流变液的循环更新是产生确定性去除的重要条件。该文针对循环系统展开分析,讨论了机械结构稳定性、磁流变悬浮液性质、循环系统压力流量稳定性及温度稳定性等因素的影响;并针对公自转磁流变抛光设备提出了特有的轮上磁流变液循环装置,开展了相关的分析和实验研究。结果表明:该轮上循环装置满足了公自转加工的要求,并且明显增强了公自转磁流变抛光设备的去除稳定性和去除效率。
- 左巍张云冯之敬辛科赵广木
- 关键词：磁流变抛光去除函数
- 高陡度非球面光学元件加工技术研究被引量：1
- 2009年
- 高陡度非球面光学元件因形状特点,其毛坯成形、研磨和抛光等加工技术难度远高于传统的球面元件。其加工过程中根据不同材料和不同加工阶段分别应用化学气相沉积(CVD)精密复制方法、单点金刚石车削(DPT)、金刚石磨削、确定性微研磨(DMG)、磁流变抛光(MRF)和射流抛光等先进制造技术。分析高陡度非球面光学元件的形状特征,重点讨论高陡度非球面光学元件的加工技术及关键工艺,针对凹面抛光加工等技术难点做出工艺分析。
- 左巍辛科赵广木
- 关键词：磁流变抛光
- MgF_2红外材料的磁流变抛光性能实验及分析被引量：1
- 2009年
- MgF2材料随着其热压成型及化学气相沉积(CVD)技术的成熟,凭借其优良的红外透射及机械性能,成为最有代表性的红外光学材料。该材料制成的高陡度非球面红外光学元件的发展给制造加工技术带来众多挑战。MgF2材料磁流变抛光性能的研究对于探索高陡度元件的凹面抛光难题具有重要意义,结合磁流变抛光技术,对MgF2材料的抛光性能展开实验研究,与K9玻璃的抛光特性做对比,分析并优化其磁流变抛光工艺参数,证实磁流变抛光对MgF2材料的有效性,并获得了4.5μm/m in的抛光效率。
- 左巍张云辛科冯之敬赵广木
- 关键词：MGF2红外材料磁流变抛光
