国家高技术研究发展计划(2006AA804405)
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
- 相关作者：倪静吴卫东王锋谌家军詹勇军更多>>
- 相关机构：四川大学中国工程物理研究院西华师范大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术更多>>
- 空心阴极制备a-CN_x:H薄膜的结构及力学性能研究
- 2007年
- 以CH4和N2为反应气体,采用空心阴极放电激发的等离子体增强化学气相沉积法在Si片上制备出了氢化非晶碳氮(a-CNx∶H)薄膜。利用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面光洁度及表面形貌进行了测量和表征。利用X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶红外吸收谱(FTIR)和纳米压入(nano-indentation)等测试手段分析了薄膜的成分、结构及力学性能。结果表明:薄膜的表面光滑、致密,表面光洁度<1nm。薄膜的最大N含量达到了26.39%(原子分数),对应的N/C为0.41。XPS和FTIR分析表明:薄膜中的C、N原子是通过C—N、C N、C≡N结合的,同时存在一定量的—CHx和—NHx基团。另外,我们发现薄膜的硬度及弹性模量随N2/CH4比的增加而增加,并且主要受微观结构(C—N/C≡N比)的影响。
- 倪静陈志梅吴卫东杨向东唐永建
- 关键词：空心阴极纳米压入模量
- NaF薄膜的结构与应力分析被引量：4
- 2007年
- 采用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)衬底上生长了NaF薄膜．分别用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的微观结构、表面形貌以及薄膜应力进行了表征与分析．AFM测试结果表明,低激光能量密度下制备的薄膜表面均匀、致密,均方根粗糙度(Rms)仅为0．538 nm;XRD分析结果表明,用脉冲激光沉积方法制备的氟化钠薄膜在(222)晶面有明显的择优取向．应力分析薄膜的残余应力为压应力,应力大小随激光能量密度的增加而增加;XPS分析结果表明,热蒸发制备的NaF薄膜氧含量明显高于PLD方法制备的NaF薄膜的氧含量．热蒸发方法制备的薄膜中的氧含主要来源于水中的氧,PID方法制备的薄膜中的氧主要来源于游离态氧,说明PLD方法制备的薄膜不容易潮解．
- 詹勇军王锋袁玉全谌家军
- 非晶碳氮薄膜的X射线光电子能谱研究
- 2009年
- 采用空心阴极等离子体化学气相沉积法,在甲烷-氨气、氢气混合气体体系下,制备出了非晶碳氮薄膜。利用原子力显微镜(AFM)及X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的表面形貌、成分及微观结构进行了测试和表征。结果表明,薄膜的表面光滑、致密,均方根粗糙度小于0.5 nm;薄膜中的氮含量随NH3(H2)流速的增加呈现降低的趋势,sp2C-N及sp3C-N键含量均随氮含量的增加而增加。
- 倪静郝希平李立本李小红吴卫东
- 关键词：X射线光电子能谱氮含量
