国家自然科学基金(20376077)
- 作品数：20 被引量：148H指数：8
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- 相关机构：郑州轻工业学院郑州大学河南大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金河南省自然科学基金国家教育部“211”工程更多>>
- 相关领域：化学工程理学金属学及工艺文化科学更多>>
- 置换镀铜溶液成分的化学分析被引量：1
- 2005年
- 给出容量法分析硫酸、硫酸铜和硫酸亚铁含量的化学分析方法。采用H2O2氧化、NH3沉淀铁测定铜,锌粉置换铜测定铁,避免了铜和铁之间的相互干扰。
- 冯丽婷
- 关键词：硫酸硫酸铜硫酸亚铁
- 焦磷酸盐电镀铜初始过程研究被引量：13
- 2005年
- 应用恒电流法研究了铁基体上焦磷酸盐电镀铜电位时间变化类型与镀层结合强度之间的关系.提出了临界起始电流密度(DKC)概念.当起始工作电流DKI大于DKC时,铁电极首先被极化至铁表面的活化电位,即基体表面被活化,随后极化至铜的析出电位,使铜层沉积在活化的铁基体表面上,形成具有良好结合强度的铜镀层.反之,如DKI小于DKC,则铜层只能在"钝化"的含氧层表面上析出,得到的镀层结合强度很差.由氩离子溅射深度刻蚀和X射线光电子能谱(XPS)检测出结合强度差的镀层和基体间界面含氧层的存在.调整工艺条件,优化了焦磷酸盐直接镀铜工艺,可降低工艺的DKC,得到与铁基体具有良好结合强度的电镀层.
- 冯绍彬商士波冯丽婷
- 关键词：焦磷酸盐镀铜XPS
- 推行清洁生产,迎接新的挑战——论实施“清洁生产促进法”是推动电镀业可持续发展的最佳选择被引量：2
- 2003年
- 介绍了清洁生产的基本概念及“清洁生产促进法”,阐述了电镀业推行清洁生产的意义、基础、工作程序及实施步骤。实施清洁生产能给电镀企业带来良好的经济效益和环境效益。
- 冯绍彬孙喜莲冯丽婷商士波
- 关键词：清洁生产电镀
- 应用电位活化理论研究青铜器的腐蚀与保护被引量：8
- 2005年
- 应用电位活化理论分析和阐述了青铜器腐蚀的观点和防护理念。对青铜器腐蚀的全过程提出了致密膜保护期、保护膜破坏局部腐蚀期和小孔腐蚀粉状锈加速期三个阶段的看法。用高效钝化保护剂对处于不同腐蚀阶段的青铜器保护膜进行修复和改性 ,结果表明 ,理论腐蚀电阻RC 从 10 5Ω提高到 10 7Ω ,并具有可间断涂覆、可回复的特点 ,可应用于青铜文物的保护试验。
- 冯绍彬商士波张巍齐迎萍冯丽婷
- 关键词：保护剂粉状锈
- 高铁酸盐研究进展被引量：10
- 2006年
- 综述了近年来国内外关于高铁酸盐研究的最新进展,重点就高铁酸盐的制备、分析、应用等方面进行了概述。参考文献37篇。
- 张雪盈杨长春石秋芝郭彩峰赵磊
- 关键词：高铁酸盐无机盐
- 钢丝化学置换镀铜工艺及钝化防锈处理被引量：9
- 2004年
- 在以硫酸铜和硫酸为主要成分的化学置换铜溶液中加入专用添加剂 ,并通过调整工艺参数 ,可在 2～ 5s的反应时间内得到 0 .1～ 0 .3μm厚度的高结合强度的置换铜层。若需镀低锡青铜 ,加入含有Sn2 +的添加剂 ,可以得到锡的质量分数为 3%左右的合金镀层。镀层经高效钝化处理 ,可以使其具有较好的抗变色、抗锈蚀性能。
- 冯绍彬冯丽婷商士波
- 关键词：钢丝钝化防锈工艺参数
- 电位活化现象与金属电沉积初始过程的研究被引量：24
- 2005年
- 进行了恒电流电位-时间曲线和循环伏安曲线的测定,显示了铁电极进行氰化物镀铜时,镀层沉积前铁表面的电位活化过程.对铁电极上焦磷酸盐镀铜的初始过程研究表明,由于铜的析出电位较正,铜是在未活化的电极表面上沉积的,因此镀层的结合强度很差.采用氩离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法,检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化,证明了氧化层的存在.通过添加辅助络合剂和控制起始电流密度的方法,可以增强无氰电镀时阴极的极化.当铜的析出电位负于铁基体的活化电位时,可显示出铁表面的电位活化过程,定量测量镀层的结合强度也与氰化物电镀相近.
- 冯绍彬商士波包祥冯丽婷张经纬李宗慧
- 关键词：电沉积电位活化X射线光电子能谱
- 氧电极的催化、阻化作用及其对金属腐蚀的影响
- 金属在大气中的腐蚀发生在三相界面处的反应复杂,其基础研究明显滞后。把握好大气腐蚀与溶液中的电化学腐蚀之间的区别和联系是研究大气腐蚀的方法。大气电化学腐蚀一般受氧的去极化过程控制,金属与其表面层、钝化层及其腐蚀产物等可构成...
- 冯绍彬苏畅冯丽婷
- 关键词：大气腐蚀氧电极
- 文献传递
- “电位活化”现象与无氰直接镀铜
- 电位活化现象发生在阴极的初始过程,认为当金属离子在阴极还原的初始电位负于金属基体表面的活化电位时,电沉积的初始过程将首先完成对金属基体的活化,随后镀层沉积在活化的基体表面,形成具有牢固结合强度的电镀层,论文综述了电位活化...
- 冯绍彬胡芳红
- 关键词：电位活化
- 文献传递
- “电位活化”现象与金属电沉积初始过程研究简报被引量：3
- 2005年
- 针对无氰电镀在镀层结合强度方面还存在的一些问题,用"电位活化"概念给出了理论解释,并从宏观到微观多方位地揭示了电位活化现象的电化学本质:恒电流法电位-时间曲线显示出了金属电沉积初始过程的电位活化平阶和特点;Ar+离子纵向深度溅射与X射线光电子能谱分析(XPS)相结合证实了电镀层结合强度差的原因是电沉积初始过程中镀层/基体界面氧化层的存在.保证电镀层与金属基体良好结合的前提,即实现电位活化的条件是电镀液中金属离子的还原电位必须负于基体金属表面氧化层的活化电位.同时给出了结合强度可与氰化物电镀相近的铁基体上焦磷酸盐直接镀铜工艺.研究表明,镍电极上的电位活化问题也取得了与上述研究一致的结论.
- 冯绍彬董会超张胜利商士波包祥刘清
- 关键词：电位活化无氰电镀
