您的位置: 专家智库 > >

浙江省重大科技专项基金(2009C11SA550048)

作品数:2 被引量:8H指数:1
相关作者:孙丽丽汪爱英张栋郑贺更多>>
相关机构:中国科学院宁波材料技术与工程研究所更多>>
发文基金:浙江省重大科技专项基金宁波市自然科学基金浙江省科技攻关计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇反应磁控溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇直流反应磁控...
  • 1篇偏压
  • 1篇耐磨
  • 1篇耐磨性
  • 1篇CRN
  • 1篇X
  • 1篇TIN

机构

  • 2篇中国科学院宁...

作者

  • 2篇张栋
  • 2篇汪爱英
  • 2篇孙丽丽
  • 1篇郑贺

传媒

  • 1篇中国表面工程
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
偏压对反应磁控溅射TiN薄膜结构以及性能的影响被引量:7
2011年
本文采用直流反应磁控溅射技术,以Ar和N2为反应前驱气体制备了TiN功能装饰薄膜。重点研究了衬底负偏压对沉积TiN薄膜的色泽、性能及微结构的影响。采用台阶轮廓仪、X射线衍射仪、EDS能谱仪、纳米压痕仪等分析了薄膜的粗糙度、晶相、组分、纳米硬度以及弹性模量。结果表明,采用适宜的衬底负偏压调控轰击离子能量,能够有效阻止薄膜结构中空位以及缺陷的产生,从而有效避免薄膜表面的紫黑色氧化钛的生成,有利于表面光滑的金黄色TiN薄膜制备,同时使薄膜具备更优异的力学性能。实验结果还表明基体偏压可显著影响TiN薄膜的择优生长取向:随偏压增加,薄膜由(111)晶相择优生长转变为(200)晶相的择优生长,(200)晶相的薄膜比(111)晶相薄膜具有更佳的力学性能。
张栋孙丽丽汪爱英
关键词:TIN反应磁控溅射偏压
直流反应磁控溅射CrN_X功能装饰涂层的研究被引量:1
2010年
采用反应磁控溅射制备不同氮气流量下的CrNX膜,观察薄膜颜色的变化,采用球盘式摩擦磨损仪、台阶仪、金相显微镜测试薄膜的耐磨性能,并采用X射线衍射技术、场发射扫描电镜观测薄膜的相成份以及微观形貌。研究结果表明,随着氮气含量的增加,薄膜颜色由银灰色逐渐过渡为深灰色,薄膜相结构由单相Cr2N转变为Cr2N和CrN混合相继而转变为单相CrN,当氮气流量为20cm3·min-1以及30cm3·min-1时薄膜表现出良好的耐磨性。采用高氮气流量的工艺镀中间层,低氮气流量的工艺镀表面层,复合薄膜的耐磨性大幅度提高,同时能够获得美观的银灰色外观。
张栋孙丽丽郑贺汪爱英
关键词:反应磁控溅射耐磨性
共1页<1>
聚类工具0