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国家高技术研究发展计划(2004AA843082)
作品数:
1
被引量:7
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相关作者:
曹磊峰
谢常青
王德强
叶甜春
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相关机构:
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2006
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电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片
被引量:7
2006年
在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的微波带片.
王德强
曹磊峰
谢常青
叶甜春
关键词:
电子束
X射线光刻
菲涅耳波带片
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