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国家高技术研究发展计划(2004AA843082)

作品数：1 被引量：7H指数：1
相关作者：曹磊峰谢常青王德强叶甜春更多>>
相关机构：中国工程物理研究院中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电子束
  • 1篇射线
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻制作
  • 1篇菲涅耳
  • 1篇菲涅耳波带片
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光刻
  • 1篇波带片

机构

  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 1篇叶甜春
  • 1篇王德强
  • 1篇谢常青
  • 1篇曹磊峰

传媒

  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片被引量：7
2006年
在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的微波带片.
王德强曹磊峰谢常青叶甜春
关键词：电子束X射线光刻菲涅耳波带片
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