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国家科技重大专项(2008ZX01XXX)

作品数:1 被引量:3H指数:1
相关作者:李蕾蕾徐睿周昕杰于宗光更多>>
相关机构:中国电子科技集团第五十八研究所东南大学西安电子科技大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇亚微米
  • 1篇亚微米工艺
  • 1篇深亚微米
  • 1篇深亚微米工艺
  • 1篇总剂量
  • 1篇总剂量效应
  • 1篇微米工艺
  • 1篇抗辐照
  • 1篇抗辐照加固
  • 1篇辐照加固
  • 1篇EEPROM
  • 1篇EEPROM...

机构

  • 1篇东南大学
  • 1篇西安电子科技...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇于宗光
  • 1篇周昕杰
  • 1篇徐睿
  • 1篇李蕾蕾

传媒

  • 1篇东南大学学报...

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
深亚微米工艺EEPROM单元加固设计及辐照性能被引量:3
2011年
当普通EEPROM单元在太空中应用时,会受到辐照效应的影响,导致单元可靠性降低,寿命缩短,为此,基于0.18μm工艺,设计出一种新型抗辐照EEPROM单元.新单元采用环形栅和场区隔离管加固结构.加固后,单元面积为9.56μm2,抗总剂量效应能力大于1 500 Gy,抗辐照能力明显优于普通结构.为明确失效机制,基于新单元结构在辐照条件下的阈值退化曲线,分析了辐照效应对存储单元的影响,并与普通单元的辐照效应相比较.结果表明:总剂量效应引起的边缘寄生管源/漏端漏电及场氧下漏电是深亚微米工艺EEPROM失效的主要机制.新单元针对失效机制的加固设计,提高了抗辐照能力和可靠性.该设计为满足太空应用中抗辐照存储器的需要,提供了良好的基础.
周昕杰李蕾蕾徐睿于宗光
关键词:总剂量效应EEPROM抗辐照加固
共1页<1>
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