您的位置: 专家智库 > >

湖南省自然科学基金(OOJJY20118)

作品数:2 被引量:4H指数:1
相关作者:雷华山何湘柱舒绪刚黄林源谢绍俊更多>>
相关机构:广东工业大学更多>>
发文基金:湖南省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇电沉积
  • 1篇镀铬
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇三价铬
  • 1篇三价铬电沉积
  • 1篇三价铬镀铬
  • 1篇络合剂
  • 1篇甘氨酸
  • 1篇氨酸
  • 1篇沉积厚度

机构

  • 1篇广东工业大学

作者

  • 1篇谢绍俊
  • 1篇舒绪刚
  • 1篇何湘柱
  • 1篇黄林源
  • 1篇雷华山

传媒

  • 1篇表面技术

年份

  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究被引量:4
2009年
为了研究1种以甘氨酸为络合剂的三价铬镀铬工艺,采用正交试验法确定三价铬电沉积的最佳工艺,即0.6mol/LCrCl3.6H2O,0.6mol/LGly,50g/LNH4Cl,0.6mol/LAlCl3.6H2O,0.5mol/LNaCl,60g/LH3BO3,20g/LNaF,0.1mol/LKBr,适量的润湿剂和去极化剂,pH=1.8,Jk=15A/dm2,θ=20℃,时间15min。并具体讨论了络合比、阴极电流密度、时间、温度等因素对镀层厚度和外观的影响;试验结果证明:在该种工艺下可获得光亮、呈准镜面外观、厚度达8μm左右的铬镀层;且经镀层性能检测表明:该镀层表面光亮、平整,与基体材料结合良好,具有一定的耐腐蚀性能。
雷华山何湘柱舒绪刚谢绍俊黄林源
关键词:三价铬镀铬沉积厚度正交试验甘氨酸络合剂
共1页<1>
聚类工具0