国家自然科学基金(50503008)
- 作品数：3 被引量：26H指数：3
- 相关作者：石光胡小艳孙丰强陈锦龙郑建泓更多>>
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- 相关领域：理学更多>>
- 壳聚糖/钠基蒙脱土的溶液插层研究被引量：4
- 2009年
- 以醋酸溶液为介质,通过溶液插层方法,研究了插层反应温度、插层反应时间、CS用量以及CS相对分子量等诸多因素对插层复合物结构的影响.通过X射线衍射及透射电子显微分析对插层复合物中MMT层间距的变化进行了表征.通过傅立叶变换红外光谱对插层复合物的化学结构变化进行了分析.结果表明,应用相对分子量为8.0×105的CS,在60℃下,插层6h,所获插层复合物层间距最大为1.53nm;CS用量对层间距影响较小;降低CS相对分子量有利于CS对MMT的插层,得到层间距更大的插层复合物.CS相对分子量是影响插层结构的主要因素,通过CS相对分子量大小的调整有望得到结构可控的插层结构.
- 石光许慧成文陈锦龙
- 关键词：壳聚糖蒙脱土插层
- 不同分子量壳聚糖对蒙脱土插层复合物的影响被引量：7
- 2009年
- 摘要于醋酸溶液中通过溶液插层技术将不同分子量的壳聚糖与钠基蒙脱土进行插层复合,制备了系列壳聚糖/蒙脱土插层复合物。通过XRD、TEM、FTIR测试技术对插层复合物的结构进行了表征。结果表明,仅通过醋酸溶液处理,残留的HAc就可使MMT层间距由原来的1·3 nm增加至1·55 nm,并使结构规整性提高;降低壳聚糖分子量有利于MMT层间距增大,并出现更多剥离形态的蒙脱土;当壳聚糖分子量为4·1×104时,最大层间距可达2·48 nm,但进一步降低壳聚糖分子量层间距反而略微减小;红外光谱分析表明,插层复合物中壳聚糖与蒙脱土间存在明显的静电作用。TGA分析结果表明,插层复合物中壳聚糖的含量随分子量的降低而增加,残留的醋酸使插层复合物中壳聚糖的热稳定性能下降。
- 石光陈锦龙胡小艳张力孙丰强
- 关键词：壳聚糖蒙脱土分子量插层复合物
