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国家高技术研究发展计划(2009AA03Z417)

作品数:3 被引量:3H指数:1
相关作者:任晓敏黄永清黄辉王琦张霞更多>>
相关机构:北京邮电大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划高等学校学科创新引智计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇会议论文
  • 3篇期刊文章

领域

  • 4篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇谐振腔增强型
  • 2篇量子效率
  • 2篇键合
  • 2篇光电
  • 1篇低温键合
  • 1篇电子学
  • 1篇氧化物
  • 1篇液固
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇增强型
  • 1篇质谱
  • 1篇闪锌矿
  • 1篇射线衍射
  • 1篇砷化镓
  • 1篇探测器
  • 1篇硼酸
  • 1篇气相沉积
  • 1篇谐振腔
  • 1篇谐振腔增强型...
  • 1篇谐振腔增强型...

机构

  • 7篇北京邮电大学

作者

  • 7篇黄永清
  • 7篇任晓敏
  • 6篇黄辉
  • 4篇张霞
  • 4篇王琦
  • 3篇郭经纬
  • 3篇王伟
  • 2篇叶显
  • 1篇王文娟
  • 1篇谢三先
  • 1篇李佳健
  • 1篇段晓峰
  • 1篇钟树泉
  • 1篇宋海兰
  • 1篇杨跃
  • 1篇段小峰
  • 1篇刘庆

传媒

  • 2篇光电子.激光
  • 2篇中国光学学会...
  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇2011
  • 6篇2010
3 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
基于双吸收结构的谐振腔增强型光探测器
为了实现对传统谐振腔增强型(RCE)光探测器的优化,本文提出了一种具有双吸收结构的RCE光探测器,并从理论上分析了该光探测器的量子效率和高速响应特性,进而将其与传统的RCE光探测器进行了比较。结果表明,双吸收结构RCE光...
王伟黄永清段晓峰蔡世伟郭经纬黄辉任晓敏
关键词:光电子学量子效率
文献传递
InAs/GaAs和InAs/InxGa1-xAs/GaAs纳米线异质结构的生长研究被引量:2
2011年
利用金辅助金属有机化学气相沉淀法(MOCVD)在GaAs(111)B衬底上分别制备了InAs/GaAs和InAs/InxGa1-xAs/GaAs(0≤x≤1)纳米线异质结构.实验结果显示,直接生长在GaAs纳米线上的InAs纳米线生长方向杂乱或者沿着GaAs纳米线侧壁向衬底方向生长,生长的含有InxGa1-xAs组分渐变缓冲段的InAs/InxGa1-xAs/GaAs三段式纳米线异质结构在轴向上串接生长而形成双异质结构.通过插入三元化合物InxGa1-xAs渐变缓冲段可以有效的克服界面能差异和晶格失配带来的负面影响,提高纳米线的晶体质量和生长可控性.
叶显黄辉任晓敏郭经纬黄永清王琦张霞
关键词:INXGA1-XAS
新型双吸收层谐振腔增强型光电探测器量子效率的传输矩阵法分析
随着光纤通信技术的发展,高量子效率、高速响应光电探测器在长距离高速光纤通信系统中的作用尤显突出。本文利用传输矩阵法对新型双吸收层光电探测器(RCE-PINIP)的量子效率进行了理论计算,然后用Mathcad软件对其进行了...
谢三先黄永清刘庆段小峰王伟黄辉任晓敏
关键词:量子效率
文献传递
基于硼酸溶液处理的GaAs/InP低温晶片键合技术被引量:1
2010年
提出了一种基于硼酸溶液的GaAs/InP低温晶片键合技术,实现了GaAs/InP基材料间简单、无毒性的高质量、低温(290℃)晶片键合。GaAs/InP键合晶片解理截面的扫描电子显微镜(SEM)图显示,键合界面整齐,没有裂缝和气泡。通过键合过程,InP上的In0.53Ga0.47As/InP多量子阱结构转移到了GaAs基底上。X射线衍射及荧光谱显示,键合后的多量子阱晶体质量未变。二次离子质谱(SIMS)和Raman光谱图显示,GaAs/InP键合晶片的中间层厚度约为17 nm,界面处B元素有较高的浓度,键合晶片的中间层很薄,因此可以得到较好的电学、光学特性。
宋海兰黄辉王文娟黄永清任晓敏
关键词:低温键合GAAS/INP
InP/Si低温晶片键合机理的研究
将硼化物溶液用于InP/Si晶片键合的表面处理工艺,实现了两种材料之间简单、无毒性的低温(280℃)晶片键合。基于这种低温键合技术,从物理化学、热力学等理论出发,结合高分辨率透射电镜(HRTEM)、拉曼光谱(Raman)...
钟树泉任晓敏黄辉黄永清王琦张霞
关键词:集成光学晶片键合
文献传递
闪锌矿B_xAl_(1-x)As合金的LP-MOCVD生长研究
2010年
利用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)生长工艺,采用三乙基硼(TEB)源,在GaAs(001)衬底上生长了B并入比为0.4%~4.4%的一系列BxAl1-xAs合金。实验结果表明,BxAl1-xAs的最优生长温度为580℃;当生长温度为550℃和610℃时,BxAl1-xAs中B并入比都会下降,550℃时B并入比下降更为显著。在580℃最优生长温度下,B并入比随着TEB摩尔流量增加而提高,且B并入比从临界值2.1%增加至最大值4.4%时,DCXRDω-2θ扫描BxAl1-xAs衍射峰的半高宽值从51.8 arcsec升高到204.7 arcsec,原子力显微镜(AFM)测试表面粗糙度从2.469 nm增大到29.086 nm,说明B并入比超过临界值后BxAl1-xAs晶体质量已经逐渐严重恶化。
李佳健王琦张霞杨跃任晓敏黄永清
温度对基于金辅助金属氧化物化学气相沉积生长的GaAs纳米线影响
近年来,由于纳米线所具有的新颖的物理特性,使其在电子学和光学等领域有着广阔的应用前景,引起了广泛关注。利用金辅助的金属氧化物化学气相沉积法在气-液-固生长机制下GaAs(111)B衬底上生长了GaAs纳米线。研究了三个生...
郭经纬黄辉叶显任晓敏蔡世伟王伟王琦黄永清张霞
关键词:纳米线砷化镓
文献传递
共1页<1>
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