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天津市自然科学基金(09JCZDJC16500)

作品数:9 被引量:23H指数:3
相关作者:杨保和李翠平王进尹涛涛纪红更多>>
相关机构:天津理工大学更多>>
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相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 8篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 3篇ALN
  • 3篇ALN薄膜
  • 2篇射频磁控
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇反应溅射
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇带通
  • 1篇带通滤波
  • 1篇带通滤波器
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硼
  • 1篇电极
  • 1篇电性能
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇性能研究
  • 1篇压电
  • 1篇压电性

机构

  • 7篇天津理工大学

作者

  • 7篇杨保和
  • 3篇李翠平
  • 2篇尹涛涛
  • 2篇王进
  • 1篇李展
  • 1篇朱珊珊
  • 1篇纪红
  • 1篇肖琦
  • 1篇苏林
  • 1篇孙连婕
  • 1篇熊瑛
  • 1篇张庚宇
  • 1篇吴晓国
  • 1篇陈希明
  • 1篇李晶晶
  • 1篇郭燕

传媒

  • 6篇光电子.激光
  • 2篇Optoel...
  • 1篇半导体技术

年份

  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 6篇2010
9 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Modification of the diamond film electrode with photochemistry for phenol degradation
2010年
The degradation of phenols has become urgent issues.In this paper,the diamond film electrode modified by photochemistry is chosen as the research object for phenol degradation.The boron-doped diamond films,which are modified and unmodified,are characterized by the X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).Cyclic voltammograms are used to test the electrochemical window.It is found that the current value of tantalum/boron-doped diamond(Ta/BDD) electrode with amino modification increases two orders of magnitude in degrading the nitro-phenol,when the amino-modified rate is only 1.9%.The current value is enhanced from-4.0 × 10-4 A-4.0 × 10-4 A to-4.0 × 10-2A-4.0 × 10-2A.In addition,in order to understand the excellent characteristics of Ta/BDD electrode modified by photochemistry for phenol degradation,the efficiency of degradation is also discussed.
安云玲常明温高杰徐萌邱晨
关键词:金刚石薄膜光化学降解苯酚降解光电子能谱薄膜电极
Effects of annealing on the characteristics of ZnO films deposited in various O_2/(O_2+Ar) ratios被引量:8
2010年
C-axis oriented ZnO films are deposited on polished diamond substrates in various O2/(O2+Ar) ratios using the radio frequency(RF) magnetron sputtering technique and are subsequently annealed in oxygen ambience under the same conditions.Structural,morphologic and electrical properties of ZnO films are characterized by X-ray diffraction(XRD),high-resistance instrument,energy dispersive X-ray spectroscopy(EDS) and scanning electronic microscopy(SEM).As the O2/(O2+Ar) ratio increasing from 1/12 to 5/12,the crystallinity of the as grown ZnO films becomes better and the electrical resistivity increases slowly.After annealing,the ZnO films deposited in O2/(O2+Ar) =1/12 and 3/12 are improved greatly in crystallinity,and their electrical resistivity is enhanced by two orders of magnitude,while those deposited in O2/(O2+Ar) =5/12 are scarcely changed in crystallinity,and their resistivity is only increased by one order.In addition,the ZnO films deposited in O2/(O2+Ar) =3/12 and annealed in oxygen are with the best crystal quality and the highest resistivity.
李翠平杨保和陈希明吴小国
关键词:氧化锌薄膜磁控溅射技术
靶基距对反应溅射AlN薄膜微结构和性能的影响被引量:2
2012年
采用射频(RF)磁控反应溅射法在Si基底上制备了氮化铝(AlN)薄膜,利用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米力学测试系统研究靶基距对AlN薄膜取向性、微结构、形貌和力学性能的影响。结果表明,靶基距较大时,形成的AlN薄膜为非晶态,薄膜表面较疏松;随着靶基距的减少,AlN薄膜变为多晶态,且具有(100)择优取向;随着靶基距的进一步减少,薄膜结晶质量变好,晶粒变大,薄膜变得更致密,择优取向也由(100)逐渐向(002)转变;靶基距较小时,AlN压电薄膜与基底结合得更牢固,而压电薄膜与基底结合的紧密程度对多层膜声表面波(SAW)器件性能优劣的影响至关重要。
王进李翠平杨保和张庚宇尹涛涛苏林
磁激励RF-PECVD法低温制备类金刚石薄膜及其特性被引量:2
2010年
采用磁激励射频等离子体增强化学气相沉积(M-RF-PECVD)方法,室温下分别在玻璃和Si(100)衬底上制备类金刚石(DLC)薄膜,通过扫描电镜(SEM)、傅里叶红外光谱(FTIR)和Raman光谱对不同沉积条件下制备的薄膜进行表征。结果表明,在反应压强为30 Pa、入射功率为50 W、CH4/Ar=5/90、衬底温度为40℃的实验条件下,制备的含氢DLC薄膜表面平整、结构致密,膜基结合度良好,薄膜中以sp3键为主。
肖琦杨保和朱珊珊
晶体管工作状态对SiGe带通滤波器的影响研究
2010年
采用SiGe异质结双极晶体管,设计了一种具有回转结构的带通跨导-电容滤波器。使用ADS软件进行电路图的仿真分析。研究镜像电流源的集电极电阻R对该滤波器中心频率、输出增益及功耗的影响。分析结果表明,镜像电流源集电极电阻R的调节可以控制镜像电流源的晶体管工作状态和回转电路的偏置电流。因此,要获得更高的中心频率,镜像电流源中直接给跨导单元提供电流的晶体管不用按常规工作在放大区而可以工作在饱和区。对滤波器输出增益和功耗的进一步分析结果表明,以上晶体管工作在饱和区不仅可以提高滤波器的工作频率,还可以提高滤波器的输出增益,但是也会同时增加滤波器的功耗。
李晶晶熊瑛杨保和张维佳申研
关键词:锗硅异质结双极晶体管滤波器高频回转器
PREPARATION AND PIEZOELECTRIC ANALYSIS OF THE MULTILAYER FILMS FOR FBAR
A multilayered structure of Al/ZnO/Al/DLC for FBAR was prepared in this research,and its piezoelectric perform...
Lin SUBao-he YANGCui-ping LI
关键词:ZNOFBARPIEZORESPONSEPFM
高声速(100)择优取向AlN薄膜的制备和性能研究被引量:1
2011年
采用射频磁控溅射法,通过改变工艺参数在n型(100)Si片上制备了表面粗糙度小、以(100)面择优取向的AlN薄膜。研究了高温退火、N2结尾等工艺对AlN薄膜择优取向的影响。结果表明,增大工作气压有利于薄膜(100)面择优取向,但是随着工作气压升高薄膜沉积不均匀,通过退火可以减少这种缺陷;N2-Ar比低有利于(100)面择优生长,但是容易使薄膜含有Al成分,通过以N2结尾可以减少薄膜中的Al成分,并从分子平均自由程和能量角度探讨了其对AlN压电薄膜择优取向的影响。
郭燕陈希明杨保和孙连婕吴晓国
关键词:ALN薄膜退火
正交实验法优化六方氮化硼薄膜的制备工艺被引量:2
2010年
采用射频磁控溅射法,在Si(100)衬底上制备了适用于声表面波(SAW)器件的氮化硼(BN)薄膜。通过正交实验法,以薄膜中六方相的纯度和取向为指标,优化了磁控溅射方法制备六方BN(h-BN)薄膜的工艺条件。利用傅里叶变换红外光(FTIR)谱和X射线衍射(XRD)谱对薄膜进行了表征,实验结果表明,溅射功率为300W、无衬底负偏压、温度为400℃和N2∶Ar=7∶8vol.%时可以制备出高纯度且高c-轴择优取向的h-BN。
李展杨保和
关键词:正交实验
Si(111)和Si(100)衬底上磁控反应溅射制备AlN薄膜被引量:7
2010年
采用射频磁控反应溅射法在Si(111)和Si(100)两种衬底上制备了AlN薄膜,用X射线衍射(XRD)对AlN薄膜进行了表征,研究了衬底Si(111)、Si(100)取向以及N2百分比对AlN(002)薄膜c-轴择优取向的影响。实验结果表明,Si(100)较适合生长c-轴择优取向AlN薄膜,而且N2百分比为40%时,AlN薄膜的c-轴取向最好,具有尖锐的XRD峰,此时对应于AlN(002)晶向。计算了(002)取向AlN和两种Si衬底的失配度,Si(111)面与AlN(002)面可归结为正三角形晶系之间的匹配,失配度为23.5%;而Si(100)面与AlN(002)面可归结为正方形晶系与正三角形晶系之间的匹配,失配度为0.8%,可以认为完全共格。理论分析和实验结果相符。
纪红杨保和李翠平
关键词:ALN薄膜射频磁控反应溅射
(100)取向AlN薄膜的制备及其压电性能研究被引量:3
2012年
采用射频磁控溅射法,在Si(100)衬底(含Au导电层)上制备了(100)取向的AlN薄膜并研究了工作压强和溅射功率对制备的AlN薄膜性能的影响。利用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜结构特性,结果表明,在一定范围内,工作压强的增加和溅射功率的减小更有利于AlN(100)晶面择优取向的生长。利用压电力显微镜(PFM)对AlN薄膜的形貌和压电性能进行了表征,发现(100)择优取向的AlN薄膜的压电性主要表现在薄膜面内方向上。
尹涛涛杨保和李翠平王进
关键词:ALN薄膜射频磁控溅射压电性能
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