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国家自然科学基金(60476026)

作品数:5 被引量:9H指数:2
相关作者:薄报学刘春玲王春武么艳平王玉霞更多>>
相关机构:长春理工大学吉林师范大学柳州职业技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金高功率半导体激光国家重点实验室基金更多>>
相关领域:电子电信理学自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 7篇激光
  • 6篇激光器
  • 5篇半导体
  • 5篇半导体激光
  • 5篇半导体激光器
  • 3篇激光技术
  • 3篇光技术
  • 2篇腔面
  • 2篇激光器腔面
  • 2篇功率
  • 2篇波长
  • 2篇高性能
  • 2篇高功率
  • 1篇导体
  • 1篇读写
  • 1篇读写器
  • 1篇短波长
  • 1篇钝化
  • 1篇钝化膜
  • 1篇阵列半导体激...

机构

  • 7篇长春理工大学
  • 2篇吉林师范大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇柳州职业技术...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 4篇薄报学
  • 2篇么艳平
  • 2篇王春武
  • 2篇刘春玲
  • 1篇乔忠良
  • 1篇刘国军
  • 1篇曲轶
  • 1篇王曦
  • 1篇姜会林
  • 1篇欧全梅
  • 1篇陈静
  • 1篇王玉霞
  • 1篇魏星
  • 1篇张苗

传媒

  • 1篇光电子.激光
  • 1篇中国激光
  • 1篇中国科学(E...
  • 1篇微计算机信息
  • 1篇功能材料与器...

年份

  • 3篇2008
  • 5篇2006
5 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
808nm波长阵列半导体激光器单光纤耦合输出
设计并研制了808nm 波长阵列半导体激光器(LDA),器件腔长为1mm,总宽度为10mm,发光区宽度为 200μm,周期为400μm,发光单元总数为25,金属微通道冷却连续输出功率为40W。采用折叠镜面方式对阵列激光器...
高欣薄报学曲轶李辉张晶
关键词:激光技术光纤耦合光束整形
文献传递
短波长宽光谱超辐射发光二极管
采用非均匀阱宽多量子阱材料拓宽超辐射器件的输出光谱。利用大光腔结构制作出高功率、宽光谱、低发散角850nm 短波长超辐射发光二极管,在120mA 时器件半峰宽可达26nm,室温下连续输出功率达到6mW。与单模保偏光纤耦合...
李辉曲轶张晶高欣薄报学刘国军
关键词:激光技术超辐射发光二极管高功率
文献传递
高性能1.3μm InGaAsN量子阱半导体激光器
利用金属有机气相沉积(MOCVD)生长了 InGaAsN 量子阱半导体激光器材料,采用脉冲阳极氧化(PAO)技术制作了脊型波导半导体激光器。制作的条宽为100μm,腔长为1500μm 的激光器在室温下可实现最高962mW...
曲轶张晶李辉高欣薄报学
关键词:激光技术高功率半导体激光器
文献传递
高性能高应变InGaAs量子阱脊型波导半导体激光器被引量:1
2006年
介绍了利用分子束外延系统生长高应变InGaAs量子阱半导体激光器材料,采用脉冲阳极氧化技术制作脊型波导半导体激光器.4μm条宽脊型波导半导体激光器在室温下单面连续输出功率达到50mW.腔长600μm时,器件阈值电流密度为300A/cm2.在100mA电流下,激光器的峰值波长为1.19μm,激光器的最大斜率效率为0.45W/A.在20℃至100℃温度下,激光器的特征温度为129K.
曲轶J.X.ZhangA.UddinS.M.WangM.SadeghiA.Larsson薄报学刘国军姜会林
关键词:高应变
基于89C51的IC卡读写器设计与实现被引量:3
2006年
本文主要介绍了一种新型的IC卡读写终端的设计,IC卡读写终端是一个单片机嵌入式应用系统。论文从IC卡的国际标准入手,介绍了实现IC卡数据存储的控制方法,并以西门子公司的SLE4442型逻辑加密卡为基础,详细分析了单片机控制IC卡数据读写的软、硬件实现。
欧全梅
关键词:IC卡嵌入式
脉冲阳极氧化工艺制作GaAs/AlGaAs宽条形半导体激光器
2008年
研究了脉冲阳极氧化工艺的特性,并利用脉冲阳极氧化工艺制作出激射波长为776nm的宽条形半导体激光器,器件阈值电流为0.35A,斜率效率为1.12W/A,与常规工艺制作的器件相比阈值电流降低了22%,斜率效率提高了18%。
魏星乔忠良薄报学陈静张苗王曦
关键词:湿法刻蚀斜率效率
硫化的激光器腔面上溅射ZnS钝化膜的研究被引量:2
2008年
提出了一种新的激光器腔面钝化方法。先用(NH4)2S溶液硫化解理后的激光器腔面,然后使用磁控溅射方法对激光器的前腔面镀ZnS钝化膜、后腔面镀Si/SiO2高反射膜。ZnS钝化层光学厚度为λ/4,在中心波长为808nm处透过率可达95.5%。钝化前激光器的光学灾变损伤(COD)阈值为1.6W,钝化后为2.0W,提高了25%倍;未镀膜的激光器阈值电流为0.25A,经硫化再镀ZnS后阈值电流为0.20A,降低了20%。实验结果表明,经硫化后溅射ZnS对激光器腔面具有良好的钝化和增透效果。
刘春玲王春武么艳平薄报学
关键词:半导体激光器钝化硫化ZNS
直流磁控溅射制备a-Si:H膜工艺及其在激光器腔面膜上的应用被引量:3
2008年
利用直流(DC)磁控溅射方法制备氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。研究了氢气流量、溅射源功率对膜的沉积速率、氢含量(CH)以及光学性能的影响。通过傅里叶变换红外(FTIR)吸收光谱计算氢含量,其最大原子数分数为11%。用椭偏仪测量了膜的折射率n和消光系数k,发现a-Si∶H薄膜的k值和n值都随CH的增加而减小。将优化的实验结果用于半导体激光器腔面高反镜的镀制,a-Si∶H薄膜在808 nm波长处的n和k分别为3.2和8×10-3,获得了良好的激光输出特性。
刘春玲么艳平王春武王玉霞薄报学
关键词:氢化非晶硅椭偏仪
共1页<1>
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