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国家高技术研究发展计划(2009AA7010106)

作品数：1 被引量：8H指数：1
相关作者：米朝伟程勇万强王淑云郭延龙更多>>
相关机构：武汉军械士官学校更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇金刚石膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石膜
  • 1篇激光
  • 1篇激光沉积
  • 1篇光学
  • 1篇光学应用
  • 1篇硅基
  • 1篇硅基底

机构

  • 1篇武汉军械士官...

作者

  • 1篇丁方正
  • 1篇郭延龙
  • 1篇王淑云
  • 1篇万强
  • 1篇程勇
  • 1篇米朝伟

传媒

  • 1篇红外与激光工...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
激光在硅基底沉积类金刚石膜的光学应用被引量：8
2010年
研究了氧气氛和掺硅对类金刚石（DLC）膜性能的影响机理。采用飞秒激光烧蚀石墨靶材,通过氧气氛、掺硅和离轴平移旋转等技术,在硅基底上镀制出比传统工艺透过率、硬度、附着力和稳定性等性能更优的无氢DLC膜。实验验证了随着氧气氛压强的增大,样片透过率先增大后减小,存在一个最佳气压（2 Pa）。并且掺硅有助于改善DLC膜的性能,掺硅量也存在一个最佳值。在3-5μm波段,正面镀DLC膜、背面镀普通增透膜的硅红外窗口的平均透过率≥91.7%,DLC膜的纳米硬度高达40-50 GPa,且通过军标规定的高温、低温、湿热、盐雾、重摩擦等环境实验,满足光学窗口工程应用的要求。
程勇郭延龙王淑云米朝伟丁方正万强
关键词：激光沉积类金刚石膜硅基底光学应用
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