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安徽省人才开发基金(2001Z016)
作品数:
1
被引量:5
H指数:1
相关作者:
肖沛
孙霞
丁泽军
张增明
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相关机构:
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张增明
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丁泽军
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孙霞
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肖沛
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1篇
2006
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投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟
被引量:5
2006年
利用基于Mott散射截面和介电函数模型的Monte Carlo方法模拟了电子穿透掩膜的能量损失分布,其计算结果与实验结果符合很好.由此进一步计算了角度限制投影电子束光刻(SCALPEL)掩膜的穿透率和衬度,结果表明:散射体的厚度对衬度的影响较大,衬度随散射体厚度的增加而增强,而支撑体对衬度的影响较小;增大限制孔的孔径角时,透射率相应增大,但衬度会降低;衬度随入射电子的能量增加而减小.
肖沛
张增明
孙霞
丁泽军
关键词:
MONTE
CARLO模拟
电子束光刻
掩膜
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