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中央级公益性科研院所基本科研业务费专项(NS2010127)

作品数:4 被引量:18H指数:4
相关作者:朱永伟李军叶剑锋左敦稳樊吉龙更多>>
相关机构:南京航空航天大学更多>>
发文基金:中央级公益性科研院所基本科研业务费专项江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇光学
  • 1篇修整
  • 1篇研磨
  • 1篇数学
  • 1篇数学建模
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇金刚石
  • 1篇光学材料
  • 1篇光学制造
  • 1篇硅片
  • 1篇刚石
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇粗糙度

机构

  • 4篇南京航空航天...

作者

  • 4篇朱永伟
  • 3篇叶剑锋
  • 3篇李军
  • 2篇左敦稳
  • 2篇樊吉龙
  • 1篇李标
  • 1篇王俊
  • 1篇李锁柱
  • 1篇李军
  • 1篇张彦
  • 1篇李茂
  • 1篇高平
  • 1篇蒋毕亮

传媒

  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇光学技术
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 2篇2011
  • 2篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究被引量:4
2010年
采用金刚石丸片和固结磨料抛光垫两种方式研磨加工硅片,以硅片的材料去除率(MRR)和表面粗糙度(Sa)为指标对金刚石丸片和固结磨料抛光垫的研磨性能进行了评价。结果表明:固结磨料抛光垫研磨硅片的材料去除率高于金刚石丸片;研磨后硅片的表面粗糙度也优于金刚石丸片,且表面粗糙度(Sa)在中部和边缘相差不大。最后分析了研磨硅片的产物-磨屑的形状特征,得出固结磨料抛光垫研磨硅片时的塑性去除量远高于金刚石丸片。
樊吉龙朱永伟李军李茂叶剑锋左敦稳
关键词:表面粗糙度
双面抛光运动的数学建模及轨迹优化被引量:7
2011年
双面抛光运动过程复杂,对光学材料的加工有重要的影响,运动轨迹分布不但影响加工效率,而且影响加工工件的表面质量。通过分析双面抛光加工的运动过程,建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学模型,改变数学模型中的轨迹运动参数,观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响,优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运动参数值。研究结果表明,工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心,行星轮与整个抛光盘半径比为0.3,抛光盘与内齿轮的转速比在3~8倍之间,内外齿轮的转速比在1~4倍的范围内,获得的抛光轨迹最优。
张彦李军朱永伟高平李标蒋毕亮左敦稳
关键词:光学材料数学建模
固结磨料抛光垫基体性能与加工性能的实验研究被引量:5
2011年
采取不同基体性能的固结磨料抛光垫(FAP),在相同的化学机械抛光(CMP)参数下,研究了溶胀率和铅笔硬度等基体性能对K9光学玻璃加工时的材料去除率(MRR)和三维轮廓表面粗糙度(Sa)等加工性能的影响规律。结果表明,溶胀率和铅笔硬度两个基体性能指标共同影响着工件的MRR和表面粗糙度。随着基体溶胀率的增大,工件的MRR降低,而工件的表面粗糙度变大;随着湿态铅笔硬度的增加,工件的MRR也相应增大,而工件的表面粗糙度依据溶胀率的某一值呈现先增大后减小的趋势;同时亲水性FAP能对工件进行长时间持续稳定加工,可说明具有自修整功能。
李锁柱朱永伟李军樊吉龙叶剑锋
关键词:光学制造
固结磨料抛光垫的凸起图案对其加工性能的影响被引量:5
2010年
抛光垫是化学机械抛光中的重要组成部分,其磨损均匀性能是影响加工后工件平面度的重要因素。本文比较了具有优化凸起图案的固结磨料抛光垫、凸起均布的固结磨料抛光垫和聚氨酯抛光垫的研磨抛光性能,结果表明:利用优化凸起图案的固结磨料抛光垫加工,可以得到更加优异且稳定的表面质量,材料去除效率远高于聚氨脂抛光垫游离磨料的加工方式。
叶剑锋朱永伟王俊钱阮富李军
共1页<1>
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