2024年8月22日
星期四
|
欢迎来到南京江宁区图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
国家自然科学基金(69625710)
作品数:
2
被引量:14
H指数:2
相关作者:
金春水
曹健林
王丽萍
张立超
更多>>
相关机构:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
更多>>
发文基金:
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
理学
电子电信
机械工程
一般工业技术
更多>>
相关作品
相关人物
相关机构
相关资助
相关领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
2篇
中文期刊文章
领域
1篇
机械工程
1篇
电子电信
1篇
一般工业技术
1篇
理学
主题
1篇
电路
1篇
软X射线
1篇
投影光刻
1篇
投影物镜
1篇
微缩
1篇
物镜
1篇
极紫外
1篇
极紫外投影光...
1篇
集成电路
1篇
光刻
1篇
光刻技术
1篇
光学
1篇
光学设计
机构
2篇
中国科学院长...
作者
2篇
金春水
1篇
张立超
1篇
王丽萍
1篇
曹健林
传媒
1篇
强激光与粒子...
1篇
光电工程
年份
1篇
2007
1篇
2000
共
2
条 记 录,以下是 1-2
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
软X射线投影光刻技术
被引量:11
2000年
软 X射线投影光刻作为特征线宽小于 0 .1μm的集成电路制造技术 ,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视。随着用于软 X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶。
金春水
王占山
曹健林
关键词:
软X射线
集成电路
极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计
被引量:3
2007年
极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点,并依据有限距反射系统像差理论,从解析解出发,设计了两套平场两镜系统,分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。
王丽萍
金春水
张立超
关键词:
极紫外投影光刻
投影物镜
光学设计
光刻技术
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张