您的位置： 专家智库 > >

国家重点实验室开放基金(mmlab0704)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：孙刚峰吉亚萍侯兴刚黄美东徐清更多>>
相关机构：天津师范大学大连理工大学更多>>
发文基金：天津市自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇透射
  • 1篇透射谱
  • 1篇溅射
  • 1篇光学
  • 1篇薄膜光学
  • 1篇ALN
  • 1篇ALN薄膜
  • 1篇沉积速率
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇大连理工大学
  • 1篇天津师范大学

作者

  • 1篇林国强
  • 1篇董闯
  • 1篇徐清
  • 1篇黄美东
  • 1篇侯兴刚
  • 1篇吉亚萍
  • 1篇孙刚峰

传媒

  • 1篇天津师范大学...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
射频磁控溅射参数对AlN薄膜光学性能的影响被引量：1
2009年
采用高真空射频磁控溅射技术,在玻璃基片上,分别于不同沉积条件下制备了AlN系列薄膜,测量了从紫外到近红外波段AlN系列薄膜的透射率谱线,利用一种较简单的透射谱包络线法,对薄膜的光学常数进行拟合分析.研究表明,气体流量和工作气压是影响薄膜光学性能的重要参数;在镀膜过程中,增加氮气流量能使铝充分地与氮气结合,有利于薄膜折射率的提高,而在较低的工作气压下获得的薄膜的折射率较大.
徐清侯兴刚孙刚峰吉亚萍黄美东林国强董闯
关键词：ALN薄膜透射谱沉积速率
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0