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掺镨GaN薄膜的微结构与光致发光被引量：1: 2005年; 利用背散射/沟道(RBS/C)技术、原子力显微镜(AFM)和光致发光(PL)谱研究了掺镨GaN薄膜的微结构和可见光发光特性.RBS/C结果表明,注入Pr后,在注入层引入了晶格损伤;注入样品经1 050℃退火后,部分损伤得到恢复,但是晶体质量没有恢复到注入前的状态.AFM结果表明,注入Pr后,表面凹凸不平,而且在注入区引起了膨胀,膨胀幅度达到23.368 nm左右.PL结果表明,在850～1 050℃退火,发光强度按e指数增加;当退火温度达到1 050℃,发光强度最强,经过数据拟合可得Pr3+的热激活能为5.8 eV.; 宋淑芳陈维德张春光卞留芳许振嘉; 关键词：GAN PR 光致发光

掺Er/Pr的GaN薄膜深能级的研究被引量：5: 2006年; 利用深能级瞬态谱(DLTS)、傅里叶变换红外光谱(FT-IR)对GaN以及GaN掺Er/Pr的样品进行了电学和光学特性分析.研究发现未掺杂的GaN样品只在导带下0·270eV处有一个深能级;GaN注入Er经900℃,30min退火后的样品出现了四个深能级,能级位置位于导带下0·300eV,0·188eV,0·600eV和0·410eV;GaN注入Pr经1050℃,30min退火后的样品同样出现了四个深能级,能级位置位于导带下0·280eV,0·190eV,0·610eV和0·390eV;对每一个深能级的来源进行了讨论.光谱研究表明,掺Er的GaN样品经900℃,30min退火后,可以观察到Er的1538nm处的发光,而且对能量输运和发光过程进行了讨论.; 宋淑芳陈维德许振嘉徐叙; 关键词：GAN ER PR 深能级

掺铒GaN薄膜的背散射沟道分析和光致发光研究被引量：7: 2003年; 采用背散射 (RBS) 沟道 (channeling)分析和傅里叶变换红外光谱 (FT IR)研究了掺铒GaN薄膜的晶体结构和光致发光 (PL)特性 .背散射沟道分析结果表明 :随退火温度的升高 ,薄膜中辐照损伤减少 ;但当退火温度达到1 0 0 0℃ ,薄膜中的缺陷又明显增加 .Er浓度随注入深度呈现高斯分布 .通过沿GaN的 <0 0 0 1 >轴方向的沟道分析 ,对于 90 0℃ ,30min退火的GaN :Er样品 ,Er在晶格中的替位率约 76 % .光谱研究表明 :随退火温度的升高 ,室温下样品的红外PL峰强度增加 ;但是当退火温度达到 1 0 0 0℃ ,样品的PL峰强度明显下降 ;测量温度从 1 5K变化到 30 0K时 ,样品 (90 0℃ ,30min退火的GaN :Er)的 1 540nm处PL温度猝灭为 30 % .; 宋淑芳周生强陈维德朱建军陈长勇许振嘉; 关键词：GAN 光致发光晶体结构

掺Er/Er+O的GaN薄膜光学性质的研究被引量：2: 2007年; 利用Raman散射谱研究了GaN注Er以及Er+O共注样品的振动模,并讨论了共注入O对Er离子发光的影响.在Raman散射谱中,对于注Er的GaN样品出现了300cm-1和670cm-1两个新的Raman峰,而对于Er+O共注样品,除了上述两个峰外,在360cm-1处出现了另外一个新的峰,其中300cm-1峰可以用disorder-activated Raman scattering(DARS)来解释,670cm-1峰是由于与N空位相关的缺陷引起的,而360cm-1峰是由O注入引起的缺陷络合物产生的.由于360cm-1模的缺陷出现,从而导致Er+O共注入GaN薄膜红外光致发光(PL)强度的下降.; 宋淑芳陈维德许振嘉徐叙瑢; 关键词：ER RAMAN 光致发光

掺铒GaN薄膜光致发光的研究被引量：3: 2002年; 采用傅立叶变换红外光谱(FT IR)研究了掺铒GaN薄膜光致发光特性。光致发光谱(PL)的测量结果表明:选用退火时间长的电阻加热退火炉退火,有利于薄膜中晶格损伤的恢复。MOCVD,MBE两种方法制备的GaN薄膜,注入铒,退火后的PL谱形状基本一样;薄膜中O,C的含量越大,可能导致1539nm处的PL强度越强。不同衬底对掺铒GaN薄膜的红外光致发光影响很大,在Si衬底上外延生长的GaN样品峰值在1539nm处的PL积分强度只有Al2O3(0001)衬底上外延生长GaN样品的30%。MBE生长的GaN Al2O3样品,注入铒、退火后,当测量温度从15K变化到300K时,样品发光的温度猝灭是30%。; 宋淑芳陈维德陈长勇许振嘉; 关键词：GAN薄膜 GAN 铒光致发光氮化镓

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国家自然科学基金(60176025)