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四川省应用基础研究计划项目(2009JY0087)

作品数:4 被引量:6H指数:2
相关作者:朱兴华杨定宇孙辉魏昭荣张海波更多>>
相关机构:成都信息工程大学电子科技大学更多>>
发文基金:四川省应用基础研究计划项目国家自然科学基金四川省教育厅重点项目更多>>
相关领域:理学电气工程电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇带隙
  • 2篇光学
  • 2篇光学带隙
  • 2篇PBI
  • 2篇衬底
  • 2篇衬底温度
  • 1篇电子结构
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶薄膜
  • 1篇压应力
  • 1篇应力
  • 1篇子结构
  • 1篇力学性质
  • 1篇膜厚
  • 1篇晶体
  • 1篇厚膜
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇沉积速率
  • 1篇程序设计
  • 1篇H-

机构

  • 5篇成都信息工程...
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 5篇朱兴华
  • 4篇杨定宇
  • 3篇孙辉
  • 3篇魏昭荣
  • 2篇杨维清
  • 1篇康建波
  • 1篇高秀英
  • 1篇杨军
  • 1篇张海波
  • 1篇祖小涛
  • 1篇丁迎春
  • 1篇李乐中
  • 1篇涂小强

传媒

  • 1篇原子与分子物...
  • 1篇功能材料
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇西华大学学报...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
近空间升华法制备PbI_2厚膜及其性质研究
2011年
采用近空间升华法在玻璃衬底上制备PbI2厚膜,研究了工艺参数对样品晶体结构、形貌和光致发光性质的影响。实验显示,沉积速率随着源温度的升高和沉积气压的下降而急剧增大。XRD谱表明PbI2膜为沿[001]晶向择优取向的六方多晶体,晶粒尺寸随沉积速率的增大而逐渐减小。同时,沉积速率增大还导致膜压应力变大,晶格常数减小,使(001)晶面衍射峰向大角度方向移动。SEM照片显示样品为(001)晶面堆积而成的片状晶粒结构,晶粒c轴与衬底平行。随着沉积速率的增大,晶粒有序性和膜致密度下降,同时(001)晶面上由于六方中心亚晶粒的出现而导致表面粗糙度大幅增大。样品的PL发光谱显示了本征发射特征,发光锋随沉积速率的增大向长波方向移动,同时峰位展宽,强度减弱。
朱兴华杨定宇孙辉魏昭荣李乐中杨维清祖小涛
关键词:沉积速率压应力
CdS多晶薄膜的制备与光学性质研究
本文采用电子束蒸发工艺在普通玻璃衬底上沉积CdS薄膜,分别采用X射线衍射(XRD)和紫外-可见透过光谱(UV-Vis)对制备样品的晶相结构和光学性质进行了表征。XRD测试表明,CdS薄膜在(002)晶向呈现出高度的择优取...
杨定宇朱兴华魏昭荣高秀英杨维清杨军
关键词:CDS多晶薄膜衬底温度光学带隙
文献传递
基于紫外-可见透过谱的薄膜厚度计算研究被引量:2
2010年
测试和控制薄膜的厚度是制备高质量薄膜材料的重要步骤之一。本文根据光谱透过率波动曲线与薄膜厚度间的内在联系,基于曲线拟合方法设计开发了一款计算软件,该程序能读取测试光谱数据并自动计算出薄膜厚度和折射率,程序计算结果与台阶仪测试结果吻合较好,证明本文所开发的软件是正确有效的。
张海波康建波孙辉杨定宇朱兴华
关键词:薄膜厚度程序设计
CdS多晶薄膜的制备与光学性质研究被引量:4
2010年
采用电子束蒸发法制备CdS多晶薄膜,研究了衬底温度和退火方式对薄膜光学性质的影响。XRD测试显示,制备样品为六方相多晶结构,沿(002)晶向择优取向生长,在200℃衬底温度时具有最大的择优取向度。对样品的紫外-可见透过谱测试表明,随着衬底温度的升高,薄膜的光吸收边逐渐变陡,光学带隙逐渐增大。退火后,CdS薄膜光吸收边变的更加陡直,光谱透过性能进一步提升,但光学带隙变化很小。此外,制备样品的XRD谱、光吸收边和光学带隙在250℃衬底温度下出现反常变化。同时对上述变化产生的根源进行了分析和讨论。
杨定宇朱兴华魏昭荣孙辉
关键词:衬底温度光学带隙
2H-PbI_2晶体的电子结构和力学性质
2014年
采用基于密度泛函平面波赝势方法(PWP)方法,计算了六角晶系2H-PbI2晶体的电子结构、力学性质和硬度.采用局域密度近似(LDA)方法计算的晶格常数、带隙、弹性常数与实验值和理论值符合较好.计算表明,2H-PbI2是一种直接带隙的半导体,带隙大约为2.38eV.运用复杂晶体硬度计算公式计算了六角晶系2H-PbI2晶体的硬度,硬度值大约为2.54GPa.还发现2H-PbI2晶体的各向异性非常明显.
涂小强朱簪巨丁迎春朱兴华
关键词:电子结构
共1页<1>
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