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中国工程物理研究院基金(10476027)

作品数：1 被引量：3H指数：1
相关作者：赖新春王庆富贾建平施立群更多>>
相关机构：表面物理与化学重点实验室复旦大学更多>>
发文基金：中国工程物理研究院基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇直流磁控
  • 1篇射线衍射
  • 1篇铝膜
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇氦
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇复旦大学
  • 1篇表面物理与化...

作者

  • 1篇施立群
  • 1篇贾建平
  • 1篇王庆富
  • 1篇赖新春

传媒

  • 1篇原子能科学技...

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
直流磁控溅射法制备含氦铝膜被引量：3
2006年
采用氦氩混合气氛下直流磁控溅射沉积方法制备含有氦原子的金属铝膜。经碳原子弹性前冲散射分析(C-ERDA),薄膜中氦原子浓度可达约7%,且分布均匀。实验研究了薄膜中的氦含量与溅射真空室气氛中氦的相对含量、基底偏压及沉积温度间的关系。薄膜的X射线衍射分析结果显示:膜中的氦含量变化并未引起明显的峰位移,只是随氦含量增加谱峰宽化。热释放实验证实,氦在薄膜中稳定存在,约500℃以上时方出现氦的释放。
贾建平施立群赖新春王庆富
关键词：磁控溅射氦X射线衍射
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