张殿朝
作品数: 20被引量:19H指数:3
  • 所属机构:天津工业大学
  • 所在地区:天津市
  • 研究方向:电子电信
  • 发文基金:国家部委资助项目

相关作者

索开南
作品数:45被引量:47H指数:2
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
庞炳远
作品数:42被引量:5H指数:1
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:区熔 硅单晶 区熔硅单晶 硅单晶生长 硅
闫萍
作品数:19被引量:21H指数:4
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:区熔 硅单晶 区熔硅单晶 高阻 少子寿命
闫萍
作品数:9被引量:0H指数:0
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:加热线圈 硅单晶生长 单晶生长 少子寿命 硅
董军恒
作品数:8被引量:2H指数:1
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:电阻率 均匀性 区熔 少子寿命 FZ