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- 新型硫酸盐电镀铜添加剂研究
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- 本实验旨在研发一种新型电镀铜添加剂,在使电镀铜镀层平整、细腻、光亮的同时满足镀液稳定性较好的条件。文章选取聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)作为光亮剂,聚乙烯吡咯烷酮作为抑制剂,二苯胺磺酸钠、对甲苯磺酰肼作为整平剂。通过单一添加剂实验,确定组分最佳的浓度范围,再进行组合添加剂实验,进一步优化浓度范围,最后进行工艺参数的优化。确定了SPS在18~25mg/L、聚乙烯吡咯烷酮在40~100mg/L、二苯胺磺酸钠在28~110mg/L、对甲苯磺酰肼在5~30mg/L,在温度20~25℃、电流密度1.0~1.5A/dm^(2)条件下镀层质量达到最优效果。
- 欧阳劲刘芳斌谢丰海
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- PCB电镀铜知识(6):铜电沉积模型
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- 陈苑明魏树丰冀林仙曾红黎钦源何为
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- 一种通孔电镀铜液和通孔电镀铜的方法
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- 陈苑明魏树丰郑莉王守绪何为
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- 一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法
- 本发明公开一种提高钕铁硼基材上电镀铜层致密性的方法,涉及表面处理技术领域,在钕铁硼基材上电镀铜时,镀铜溶液中加入添加剂,添加剂为3‑吡啶甲酸及3‑吡啶甲酰铵和盐酸吡啶的混合物,3‑吡啶甲酸及3‑吡啶甲酰铵的混合物与盐酸吡...
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